[实用新型]印染废水深度氧化处理结构

权利要求书

1.印染废水深度氧化处理结构，包括罐体(1)和减速电机(2)，其特征在于：所述减速电机(2)设置在罐体(1)的顶部，所述罐体(1)的顶部固定连接有连接块(3)，所述连接块(3)的顶部与减速电机(2)固定连接，所述连接块(3)的顶部开设有活动槽(4)，所述连接块(3)内壁的左侧连通有进气管(5)，所述减速电机(2)的输出端固定连接有搅拌杆(6)，所述搅拌杆(6)的两侧均固定连接有搅拌叶(7)，所述搅拌叶(7)设置有若干个，且若干个搅拌叶(7)呈等距离分布，所述搅拌杆(6)表面的顶部开设有进气槽(8)，所述搅拌叶(7)的内壁与进气槽(8)相连通，所述罐体(1)的内壁固定连接有加热组件(9)。

2.根据权利要求1所述的印染废水深度氧化处理结构，其特征在于：所述进气槽(8)的内壁设置有加热管(10)，所述加热管(10)与进气槽(8)的内壁固定连接。

3.根据权利要求1所述的印染废水深度氧化处理结构，其特征在于：所述加热组件(9)包括陶瓷板(91)，所述陶瓷板(91)与罐体(1)的内壁固定连接，所述陶瓷板(91)的内壁固定连接有发热丝(92)。

4.根据权利要求1所述的印染废水深度氧化处理结构，其特征在于：所述搅拌叶(7)的顶部固定连接有曝气头(11)，所述曝气头(11)设置有若干个，且若干个曝气头(11)呈等距离分布，所述曝气头(11)的底部与搅拌叶(7)的内壁相连通。

5.根据权利要求4所述的印染废水深度氧化处理结构，其特征在于：所述曝气头(11)内壁的顶部固定连接有气泡板(12)，所述曝气头(11)内壁的底部活动连接有活动块(13)。

6.根据权利要求1所述的印染废水深度氧化处理结构，其特征在于：所述活动槽(4)内壁的底部设置有密封垫(14)，所述密封垫(14)固定连接在活动槽(4)内壁的底部。