[实用新型]一种单面自动光刻机有效

专利信息
申请号: 202122620374.1 申请日: 2021-10-28
公开(公告)号: CN216622957U 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: 张其文;扶小莲;刘阳波;陈正洪 申请(专利权)人: 四川鸿源鼎芯科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 成都信捷同创知识产权代理事务所(普通合伙) 51323 代理人: 左正超
地址: 610199 四川省成都市龙泉*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 单面 自动 光刻
【说明书】:

实用新型属于光刻机技术领域,公开了一种单面自动光刻机,包括机架,机架上设有可圆周转动的机械臂,机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、对位工位、NG工位和下料工位,上料工位处设有上料盒,预对位工位处设有预对位装置,对位工位处设有XYY平台、承片台、升降单元和曝光机构,NG工位处设有NG料盒,下料工位处设有下料盒;XYY平台安装在升降单元的自由端上,承片台安装在XYY平台的自由端上,曝光机构位于承片台上方。本实用新型所提供的一种单面自动光刻机,通过机械臂将硅片依次放入各工位进行作业,整个过程不需要人为操作,实现全自动化控制,有效提高工作效率。

技术领域

本实用新型属于光刻机技术领域,具体涉及一种单面自动光刻机。

背景技术

光刻是半导体制造过程中一道非常重要的工序,它是将一系列掩模板上的芯片图形通过曝光依次转移到硅片相应层上的工艺过程,被认为是大规模集成电路制造中的核心步骤。半导体制造中一系列复杂而耗时的光刻工艺主要由相应的光刻机来完成。现有的光刻机自动化程度不高,需要大量的人工操作,导致光刻效率低。

实用新型内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决上述技术问题。为此,本实用新型目的在于提供一种单面自动光刻机。

本实用新型所采用的技术方案为:

一种单面自动光刻机,包括机架,机架上设有可圆周转动的机械臂,机械臂的外围沿圆周分布有上料工位、预对位工位、对位工位、NG工位和下料工位,上料工位处设有上料盒,预对位工位处设有预对位装置,对位工位处设有XYY平台、承片台、升降单元和曝光机构,NG工位处设有NG料盒,下料工位处设有下料盒;XYY平台安装在升降单元的自由端上,承片台安装在XYY平台的自由端上,曝光机构位于承片台上方。

优选地,所述预对位装置包括预对位台,预对位台的两侧分别设有第一气缸和第二气缸,第一气缸上设有第一推爪,第二气缸上设有第二推爪;预对位台的上方设有第一摄像头。

优选地,所述第一推爪上设有第一弧形槽和第二弧形槽,第二推爪上设有第三弧形槽和第四弧形槽,第一弧形槽与第三弧形槽相对设置,第二弧形槽和第四弧形槽相对设置。

优选地,所述机架上设有支撑杆,支撑杆上安装有第三气缸,第三气缸的自由端上设有安装架,第一摄像头安装在安装架上。

优选地,所述机架上还安装有第二摄像头,第二摄像头位于承片台的一侧。

优选地,所述机架的外围设有保护罩,保护罩上设有检修门。

优选地,所述上料工位处设有两个上料盒,下料工位处设有两个下料盒。

本实用新型的有益效果为:

本实用新型所提供的一种单面自动光刻机,通过机械臂将硅片依次放入各工位进行作业,整个过程不需要人为操作,实现全自动化控制,有效提高工作效率。

附图说明

图1是本实用新型单面自动光刻机的结构示意图。

图2是本实用新型单面自动光刻机各工位的示意图。

图3是本实用新型预对位装置的示意图。

图4是本实用新型升降单元的安装示意图。

图中:1-机架;2-机械臂;3-上料盒;4-预对位装置;5-承片台;6-升降单元;7-NG料盒;8-下料盒;9-保护罩;10-检修门;11-预对位台;12-第一气缸;13-第二气缸;14-第一推爪;15-第二推爪;16-第一摄像头;17-支撑杆;18-第三气缸;19-安装架;20-第一弧形槽;21-第二弧形槽。

具体实施方式

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