[实用新型]光束稳定系统及检测设备有效

专利信息
申请号: 202122550884.6 申请日: 2021-10-22
公开(公告)号: CN217007873U 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 辛自强;刘伟龙;方一;黄有为;陈鲁;张嵩 申请(专利权)人: 深圳中科飞测科技股份有限公司
主分类号: G02B27/64 分类号: G02B27/64;G02B7/182;G02B7/198
代理公司: 深圳鼎合诚知识产权代理有限公司 44281 代理人: 彭家恩
地址: 518000 广东省深圳市龙华区大浪街*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光束 稳定 系统 检测 设备
【权利要求书】:

1.一种光束稳定系统,其特征在于,所述光束稳定系统包括激光光源,第一反射镜、第二反射镜、第三反射镜、第四反射镜、第一调节组件、第二调节组件、第一探测器以及第二探测器,

所述第一调节组件与所述第一反射镜连接,用于调整所述第一反射镜的偏转角度;所述第二调节组件与所述第二反射镜连接,用于调整所述第二反射镜的偏转角度;

所述激光光源发出的光线依次经过所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜后传出所述光束稳定系统;

所述光线经过所述第二反射镜后,部分光线透射经过第二反射镜,并传输至所述第一探测器;所述光线经过所述第四反射镜后,部分光线透射经过第四反射镜,并传输至所述第二探测器。

2.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述光线在所述第一反射镜、所述第二反射镜、所述第三反射镜、所述第四反射镜的入射角均为45度。

3.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述光束稳定系统还包括第五反射镜及第六反射镜,所述第四反射镜与所述第五反射镜相对设置,所述光线经过所述第一反射镜反射后,传输至所述第五反射镜以及第六反射镜,再传输至所述第二反射镜。

4.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述光束稳定系统还包括第七反射镜,所述第七反射镜设于所述第四反射镜与所述第二探测器之间,所述光线透射经过所述第四反射镜后,被所述第七反射镜反射后传输至所述第二探测器。

5.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述第一调节组件包括第一平板、第二平板、第三平板、第一连接部、第二连接部、第一压电陶瓷以及第二压电陶瓷,所述第一平板与所述第二平板通过第一连接部连接,所述第二平板与所述第三平板通过第二连接部连接,所述第一压电陶瓷设于所述第一平板与所述第二平板之间,所述第二压电陶瓷设于所述第二平板与所述第三平板之间,所述第一压电陶瓷用于调节所述第一平板与第二平板之间的距离与夹角,所述第二压电陶瓷用于调节所述第二平板与第三平板之间的距离与夹角。

6.根据权利要求5所述的光束稳定系统,其特征在于,所述第一连接部设于所述第一平板与所述第二平板的一侧边缘,所述第一平板相对所述第一连接部的延伸方向与所述第二平板相对所述第一连接部的延伸方向相同;

所述第二连接部设于所述第二平板与所述第三平板的一侧边缘,所述第二连接部的延伸方向与所述第一连接部的延伸方向相垂直。

7.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述第二调节组件包括第四平板、第五平板、第六平板、第三连接部、第四连接部、第三压电陶瓷以及第四压电陶瓷,所述第四平板与所述第五平板通过第三连接部连接,所述第五平板与所述第六平板通过第四连接部连接,所述第三压电陶瓷设于所述第四平板与所述第五平板之间,所述第四压电陶瓷设于所述第五平板与所述第六平板之间,所述第三压电陶瓷用于调节所述第四平板与第五平板之间的距离与夹角,所述第四压电陶瓷用于调节所述第五平板与第六平板之间的距离与夹角。

8.根据权利要求7所述的光束稳定系统,其特征在于,所述第三连接部设于所述第四平板与所述第五平板的一侧边缘,所述第四平板相对所述第三连接部的延伸方向与所述第五平板相对所述第三连接部的延伸方向相同;

所述第四连接部设于所述第五平板与所述第六平板的一侧边缘,所述第四连接部的延伸方向与所述第三连接部的延伸方向相垂直。

9.根据权利要求1所述的光束稳定系统,其特征在于,所述光束稳定系统还包括壳体,所述壳体设有入光口与出光口,所述入光口与所述出光口共线设置。

10.一种检测设备,其特征在于,所述检测设备包括如权利要求1-9任一项所述的光束稳定系统。

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