[实用新型]磁传感器有效

专利信息
申请号: 202122383424.9 申请日: 2021-09-28
公开(公告)号: CN216351171U 公开(公告)日: 2022-04-19
发明(设计)人: 金文超;闻永祥;孙福河 申请(专利权)人: 杭州士兰集昕微电子有限公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司 11449 代理人: 蔡纯;张靖琳
地址: 310018 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 传感器
【说明书】:

本申请公开了一种磁传感器,包括:衬底,具有相对的第一表面与第二表面;凹槽,自第一表面向第二表面的方向延伸,凹槽的底面位于衬底中;第一伸缩部,位于凹槽的侧壁上;第一压电部,位于第一伸缩部上;第二伸缩部,位于第一表面上沿第一方向延伸;第二压电部,位于第二伸缩部上;第三伸缩部,位于第一表面上沿第二方向延伸;以及第三压电部,位于第三伸缩部上,其中,第一方向垂直于第一表面向第二表面的方向,第二方向垂直于第一表面向第二表面的方向,并且垂直于第一方向。

技术领域

本申请涉及半导体制造技术领域,更具体地,涉及一种磁传感器。

背景技术

目前常规的磁传感技术主要基于两种原理:霍尔效应和磁电阻效应。基于磁电阻效应的传感器灵敏度相对较高,但是制作工艺流程复杂,同时不能单片集成导致整个传感器系统价格飙升;而基于霍尔效应的传感器虽然能够被单片集成到集成电路中,但是低灵敏度限制了其使用环境。

因此,希望进一步优化磁传感器的结构,从而可以有效的兼顾磁传感器的灵敏度与成本。

实用新型内容

鉴于上述问题,本实用新型的目的在于提供一种磁传感器,以达到兼顾磁传感器的灵敏度与成本的目的。

根据本实用新型实施例的一方面,提供了一种磁传感器,包括:衬底,具有相对的第一表面与第二表面;凹槽,自所述第一表面向所述第二表面的方向延伸,所述凹槽的底面位于所述衬底中;第一伸缩部,位于所述凹槽的侧壁上;第一压电部,位于所述第一伸缩部上;第二伸缩部,位于所述第一表面上沿第一方向延伸;第二压电部,位于所述第二伸缩部上;第三伸缩部,位于所述第一表面上沿第二方向延伸;以及第三压电部,位于所述第三伸缩部上,其中,所述第一方向垂直于所述第一表面向所述第二表面的方向,所述第二方向垂直于所述第一表面向所述第二表面的方向,并且垂直于所述第一方向。

可选地,所述第一伸缩部、所述第二伸缩部以及所述第三伸缩部为将磁能转换为机械能的磁致伸缩材料层,所述第一压电部、所述第二压电部以及所述第三压电部为将所述机械能转换为电能的压电材料层。

可选地,所述第一压电部呈长条状,沿该长条的长度方向具有相对的第一端与第二端,所述第一压电部的第一端靠近所述凹槽的开口,所述第一压电部的第二端靠近所述凹槽的底面;所述第二压电部呈长条状且沿所述第一方向具有相对的第一端与第二端,所述第二压电部的第一端靠近所述凹槽,所述第二压电部的第二端远离所述凹槽;所述第三压电部呈长条状且沿所述第二方向具有相对的第一端与第二端,所述第三压电部的第一端靠近所述第二压电部,所述第三压电部的第二端远离所述第二压电部。

可选地,所述第一伸缩部的外周边缘包围所述第一压电部的外周边缘;所述第二伸缩部的外周边缘包围所述第二压电部的外周边缘;所述第三伸缩部的外周边缘包围所述第三压电部的外周边缘。

可选地,所述第一压电部的数量为多个,且相邻的所述第一压电部彼此分隔;所述第二压电部的数量为多个,且相邻的所述第二压电部彼此分隔;所述第三压电部的数量为多个,且相邻的所述第三压电部彼此分隔。

可选地,所述第一伸缩部与所述第一压电部的数量、位置一一对应,且相邻的所述第一伸缩部之间彼此分隔;所述第二伸缩部与所述第二压电部的数量、位置一一对应,且相邻的所述第二伸缩部之间彼此分隔;所述第三伸缩部与所述第三压电部的数量、位置一一对应,且相邻的所述第三伸缩部之间彼此分隔。

可选地,每个所述第一伸缩部呈长条状,沿该长条的长度方向,所述第一伸缩部具有相对的第一端与第二端,每个所述第一伸缩部的第一端靠近所述凹槽的开口,每个所述第一伸缩部的第二端靠近所述凹槽的底面;每个所述第二伸缩部呈长条状且沿所述第一方向延伸并具有相对的第一端与第二端,沿所述第一方向,所述第二伸缩部的第一端靠近所述凹槽,所述第二伸缩部的第二端远离所述凹槽;每个所述第三伸缩部呈长条状且沿所述第二方向延伸并具有相对的第一端与第二端,所述第三伸缩部的第一端靠近所述第二压电部,所述第三伸缩部的第二端远离所述第二压电部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杭州士兰集昕微电子有限公司,未经杭州士兰集昕微电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202122383424.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top