[实用新型]一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机

权利要求书

1.一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，包括双盘压力研磨抛光机本体(1)、打磨盘(2)和滴水器(3)，其特征在于：所述打磨盘(2)设置在双盘压力研磨抛光机本体(1)顶部的两侧，所述滴水器(3)设在双盘压力研磨抛光机本体(1)顶部后侧的两侧，所述双盘压力研磨抛光机本体(1)顶部的两侧均固定连接有安装架(4)，所述安装架(4)的顶部设置有活动块(5)，所述活动块(5)设置有三个且呈等距离分布，所述活动块(5)的底部开设有安装槽(6)，所述安装槽(6)的内壁活动连接有正反向丝杆(7)，所述正反向丝杆(7)表面的两侧活动连接有夹紧板(8)，所述安装架(4)的内部开设有位于活动块(5)两侧的限位槽(9)，所述活动块(5)的两侧均固定连接有限位块(10)，所述限位块(10)与限位槽(9)滑动连接，所述限位块(10)的底部固定连接有弹簧(11)，所述弹簧(11)的底部固定连接在限位槽(9)内壁的底部，所述活动块(5)的顶部固定连接有传动箱(12)，所述传动箱(12)的内部固定安装有电机(13)，所述电机(13)的输出端贯穿至活动块(5)的内部，所述电机(13)的输出端固定连接有传动组件(14)。

2.根据权利要求1所述的一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，其特征在于：所述传动组件(14)包括蜗杆(141)，所述正反向丝杆()的表面固定连接有蜗轮(142)，所述蜗杆(141)与蜗轮(142)啮合。

3.根据权利要求1所述的一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，其特征在于：所述传动箱(12)的顶部固定连接有按压板(15)，所述按压板(15)的顶部呈弧形设置，所述按压板(15)的顶部固定连接有按压垫(16)。

4.根据权利要求1所述的一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，其特征在于：所述夹紧板(8)的内侧固定连接有夹紧垫(17)，所述夹紧垫(17)的材质为硅胶。

5.根据权利要求1所述的一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，其特征在于：所述传动箱(12)的两侧均开设有散热孔(18)，所述散热孔(18)设置有若干个且呈等距离分布。

6.根据权利要求1所述的一种高分子材料试验用双盘压力研磨抛光机，其特征在于：所述双盘压力研磨抛光机本体(1)顶部的前侧固定连接有控制盒(19)，所述控制盒(19)通过导线与电机(13)电性连接。