[实用新型]一种基片清洗夹具和基片清洗系统

说明书

本实用新型公开了一种基片清洗夹具和基片清洗系统。该基片清洗夹具包括基片承载架和安装架，其中基片承载架包括第一支撑件、第二支撑件和第一连接组件，第一支撑件设置有多个第一凸起部，第一支撑件还设有第一折弯部，第二支撑件设置有多个均匀分布的第二凸起部，第二支撑件还设有自其底部向靠近第一支撑件一侧弯曲的第二折弯部；安装架，安装架包括第一固定件、第二固定件、至少一个隔板和第二连接组件。使用时，通过相邻的第一凸起部形成的第一凹陷部和相邻的第二凸起部形成的第二凹陷部对基片进行限位，通过第一折弯部和第二折弯部支撑基片；增加了基片边缘的暴露面积，使基片边缘与清洗液充分接触，提高基片的清洗效果。

本申请要求以下中国专利申请的优先权，其全部内容通过引用结合在本申请中。申请号：202122223932.0，申请日：2021年09月14日，实用新型创造名称：一种基片清洗夹具和基片清洗系统。

技术领域

本实用新型涉及基片清洗技术领域，尤其涉及一种基片清洗夹具和基片清洗系统。

背景技术

基片清洗是混合集成电路加工过程中的重要工序，其目的主要是为了去除吸附在基片表面的各种杂质，如微粒、有机物、金属离子等，使基片表面的洁净度达到工艺要求。在混合集成电路的生产制造过程中，清洗质量的好坏甚至对产品性能起着决定性作用。

目前，混合集成电路用的清洗系统一般设置清洗槽，在清洗槽内设置能够承载基片的工装夹具，并在清洗槽中放置清洗液以清洗基片。如图1所示，现有的工装夹具通过开设卡槽放置基片，由于卡槽的宽度需要与基片厚度相适配，而基片厚度一般较小，导致卡槽的宽度也相应地较小，进入卡槽内的清洗液的量较少，使得位于卡槽内的基片边缘部分所接触的清洗液较少，最终导致基片边缘部分清洗后存在残留杂质，降低了基片的清洗效果。

因此，如何提高基片的清洗效果，是本领域技术人员目前需要解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种基片清洗夹具，以提高基片的清洗效果。

为了实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种基片清洗夹具，包括基片承载架以及用于安装基片承载架的安装架，其中：

基片承载架包括相对设置的第一支撑件和第二支撑件，以及连接第一支撑件与第二支撑件的第一连接组件；第一支撑件沿其长度方向上设置有多个第一凸起部，相邻的第一凸起部之间形成第一凹陷部；第一支撑件还设有自其底部向靠近第二支撑件一侧弯曲的第一折弯部；第二支撑件沿其长度方向上设置有多个第二凸起部，相邻的第二凸起部之间形成第二凹陷部，每个第二凹陷部均对应一个第一凹陷部，并且第一凹陷部和第二凹陷部均能够与基片的边缘匹配，第二支撑件还设有自其底部向靠近第一支撑件一侧弯曲的第二折弯部；

安装架包括相对设置的第一固定件和第二固定件，以及连接第一固定件与第二固定件的第二连接组件；第一固定件与第二固定件之间设置有至少一个隔板，以将第一固定件与第二固定件之间的区域分隔成多个安装区，基片承载架能够安装于安装区内。

优选地，在上述基片清洗夹具中，第一连接组件包括第一连接杆、第二连接杆、第三连接杆和第四连接杆，第一连接杆和第二连接杆均设置于第一支撑件的第一侧且沿基片承载架的高度方向依次设置，第三连接杆和第四连接杆均设置于第一支撑件的第二侧且沿基片承载架的高度方向依次设置。

优选地，在上述基片清洗夹具中，第一凸起部和第二凸起部在垂直于其自身延伸方向上的平面上的截面形状均为弓形，并且第一凸起部和第二凸起部的延伸方向均倾斜设置。

优选地，在上述基片清洗夹具中，第一支撑件和第二支撑件分别为第一支撑板和第二支撑板，第一支撑板和第二支撑板上均设有能够使清洗液通过的过液孔。