[实用新型]一种适用于多种制程的多尺寸晶圆边缘曝光装置有效
| 申请号: | 202122133271.2 | 申请日: | 2021-09-06 |
| 公开(公告)号: | CN215867502U | 公开(公告)日: | 2022-02-18 |
| 发明(设计)人: | 温海涛;邹春太;邢栗 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
| 代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 王倩 |
| 地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 多种 尺寸 边缘 曝光 装置 | ||
本实用新型属于半导体晶圆制造领域,具体说是一种适用于多种制程的多尺寸晶圆边缘曝光装置。包括:主控制系统,以及与主控制系统连接的CCD数据采集系统、光源组以及设有可承载待曝光晶圆的三轴联动平台;CCD数据采集系统和光源组分别安装于三轴联动平台的相邻两侧;CCD数据采集系统,包括:CCD安装支架,以及设置在CCD安装支架上的发射头和接收头,发射头和接收头之间的空间为光感区,以使待曝光晶圆的边缘设于光感区内,发射头通过信号传输线与主控制系统连接,接收头内设有CCD传感器,经信号传输线与主控制系统连接。本实用新型光源组可同时满足多工艺制程的需求;并且通过一套三轴联动平台,可以满足多尺寸晶圆的需求,还适用于透明晶圆的工艺需求。
技术领域
本实用新型属于半导体晶圆制造领域,具体说是一种适用于多种制程的多尺寸晶圆边缘曝光装置。
背景技术
晶圆边缘曝光装置是保证前道Track设备与光刻机联机作业的重要组成,是实现晶圆涂胶、光刻、显影无缝联接的核心部件。光刻胶旋涂过程中,在离心力和表面张力的作用下,胶体在晶圆边缘形成堆积,导致晶圆边缘区域光刻胶膜厚过大,无应用价值,而且这部分胶体容易剥离,导致附近光刻图案损坏。因此晶圆边缘一定宽度内的胶体需要及时去除。
然而,现有的晶圆边缘曝光装置存在以下缺点:1、行业产品多为两轴联动,只可加工圆环及扇形图案,无法满足客户对矩形区域的曝光需求;2、行业产品光源能量低,工艺时间长,很大程度限制整机产能;3、行业产品暂无多工艺制程的通用方案,I-line、KrF、ArF不同制程应用不同的边缘曝光产品,适用性差;4、行业产品暂无多尺寸兼容方案,针对不同尺寸加工需求(6/8/12寸)配备不同型号的边缘曝光产品,通用性差。研究出适用于多种制程的多尺寸晶圆的边缘曝光装置显得尤为重要。
实用新型内容
本实用新型目的是提供一种可同时满足行业不同工艺制程(I-line、KrF、ArF),不同尺寸(6/8/12寸)晶圆的工艺需求的通用兼容型边缘曝光装置,以克服上述现有晶圆边缘曝光装置的缺陷。
本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是:一种适用于多种制程的多尺寸晶圆边缘曝光装置,包括:主控制系统,以及与主控制系统连接的CCD数据采集系统、光源组以及设有可承载待曝光晶圆的三轴联动平台;
其中,所述CCD数据采集系统和光源组分别安装于三轴联动平台的相邻两侧;
所述CCD数据采集系统,包括:CCD安装支架,以及设置在CCD安装支架上的发射头和接收头,所述发射头和接收头之间的空间为光感区,以使待曝光晶圆的边缘设于光感区内,所述发射头通过信号传输线与主控制系统连接,所述接收头内设有CCD传感器,经信号传输线与主控制系统连接。
所述光源组,包括:光源装置、固定支架、镜头组固定架、传导光纤、光源数据通信器、镜头组固定座、镜头组调整架、聚焦透镜、光斑成型罩以及镜头组固定块;
所述镜头组固定座固设于三轴联动平台的一侧;镜头组固定座上设有镜头组固定架,所述镜头组固定座与镜头组固定架为一体结构,所述镜头组固定架上设有镜头组调整架;
所述镜头组调整架一端与镜头组固定架螺纹连接,另一端与镜头组固定块固接;
所述光源装置通过固定支架安装在地面上,所述光源装置的接收端经光源数据通信器通过信号传输线与主控制系统连接;
所述光源装置发射的光斑经传导光纤、依次通过聚焦透镜以及光斑成型罩以将发射的光斑聚焦在待曝光晶圆边缘上。
所述镜头组固定架的纵轴线与镜头组固定块的纵轴线平行。
所述镜头组固定架与镜头组调整架之间的夹角为90°;
所述镜头组调整架与镜头组固定块之间的夹角为90°。
所述镜头组固定块上设有光纤固定架,所述光纤固定架套设在传导光纤上。
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