[实用新型]压力动态调节装置有效

专利信息
申请号: 202122113553.6 申请日: 2021-09-03
公开(公告)号: CN215789076U 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 张军;王焱海;申波;鲁元朋;宋均恒 申请(专利权)人: 洛阳市润智数控设备有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/34;B24B37/005;B24B41/02;B24B47/12;B24B41/04
代理公司: 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 代理人: 王金凤
地址: 471000 河南省洛*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 压力 动态 调节 装置
【说明书】:

实用新型提供一种压力动态调节装置,包括压盘、用于连接压盘且使压盘能够摆动的横梁,横梁与压盘之间设置有用于调节压盘与竖直方向的夹角的调节组件,还包括测量压盘在工作时测量冷却液温度的多个温度传感器,调节组件包括有多个调节元件,调节元件与压盘可滑动连接,通过调节调节元件使压盘的表面与工件的表面相接触,保证工件整体受力均匀,温度传感器的个数与调节元件的个数和位置相对应,温度传感器与调节元件可通信连接,以控制调节元件调节压盘与竖直方向的夹角,当一侧温度传感器感受到温度升高时,调整与温度升高的相对的一侧的调节元件运动,使温度升高的一侧的压盘升高,进而实现压盘微调的目的,保证工件在研磨的过程中受力均匀。

技术领域

本实用新型涉及机械研磨技术领域,尤其是涉及一种压力动态调节装置。

背景技术

目前在玻璃、硅片、陶瓷片等薄脆零件的研磨领域。对于运行的平稳性、压力分布的一致性都有较高要求,在压力分布不均时,将出现单个工件受压破碎,引发整盘加工报废。为了保证成品率,现有工艺均采用低压力,低效率的方式进行加工。但是随着半导体、精密陶瓷、超薄玻璃的用量逐年增大,传统的加工方式已无法满足需求,其中,在研磨的过程中由于研磨的压力的过大,同样会导致的温度比较高。

研究如何解决现有研磨过程中如何保持工件的受力均匀,保证成品率的问题,这个问题是本领域技术人员主要解决的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种压力动态调节装置,以解决现有技术中存在的研磨过程中如何保持工件的受力均匀,保证成品率的问题。本实用新型提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果(A、B、C)详见下文阐述。

为实现上述目的,本实用新型提供了以下技术方案:

本实用新型提供的一种压力动态调节装置,包括压盘、用于连接所述压盘且使所述压盘能够摆动的横梁,所述横梁与所述压盘之间设置有用于调节所述压盘与竖直方向的夹角的调节组件,还包括用于测量压盘在工作时测量冷却液温度的多个温度传感器,所述调节组件包括有多个调节元件,所述调节元件与所述压盘可滑动连接,所述温度传感器的个数与所述调节元件的个数和位置相对应,所述温度传感器与调节元件可通信连接,以控制调节元件调节所述压盘与竖直方向的夹角。

优选地,所述调节组件与所述压盘之间还设置有连接组件,所述连接组件的一端与调节元件相连接,所述连接组件的另一端与所述压盘相连接。

优选地,所述调节组件包括设置在所述横梁下端连接板、沿所述连接板的周向均匀设置多个第二活塞缸,所述第二活塞缸的第二活塞杆与所述连接组件相连接,以带动所述连接组件运动。

优选地,所述连接组件包括与所述第二活塞缸的第二活塞杆的一端滑动连接的接盘、带动所述接盘转动的转轴、连接所述转轴与所述接盘的连接元件,所述连接元件能使所述接盘沿着所述接盘的轴向摆动。

优选地,所述连接元件包括与所述转轴相连接的球接头、与所述球接头相配合的球底座,所述球底座与所述接盘相连接,所述球接头与球底座之间通过键或者花键连接,所述花键的轴向与所述转轴的轴向相同。

优选地,还包括带动所述压盘转动的动力组件,所述动力组件包括电机、设置在所述横梁上的传动装置,所述传动装置包括第一输入轴、第一输出轴、套设在所述第一输入轴与所述第一输出轴上的传动带,所述转轴为所述第一输出轴,所述转轴穿过所述横梁、所述调节组件与所述连接元件相连接,所述电机的第二输出轴与所述第一输入轴相连接。

优选地,所述第二活塞缸的输入端设置有比例阀,所述比例阀与所述控制器可通信连接。

优选地,所述球底座的外周面设置有台阶,所述接盘上设置安装所述底座的安装孔,所述安装孔卡设在所述台阶上。

优选地,所述凹槽设置在所述接盘的中间位置,所述温度传感器设置在所述凹槽内。

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