[实用新型]清洗基座和清洁设备

权利要求书

1.一种清洗基座，其特征在于，用于清洗清洁装置的清洁件，所述清洗基座包括清洗盘(10)、第一盛水件(20)、第二盛水件(30)和上水组件，所述第二盛水件(30)与所述清洗盘(10)可拆卸连接；

所述清洗盘(10)具有容纳所述清洁件的清洗槽(11)，所述第一盛水件(20)具有清洁液槽(21)，所述第二盛水件(30)具有排污槽(31)；所述清洗盘(10)与所述第一盛水件(20)相连并盖设于所述清洁液槽(21)上，所述清洗盘(10)具有进水口(12)和排水口(13)，所述进水口(12)与所述清洁液槽(21)对应设置，所述排水口(13)与所述排污槽(31)相连通；

所述上水组件设置在所述进水口(12)位置处，用于将所述清洁液槽(21)内的清洁液由所述进水口(12)供应至所述清洗槽(11)内。

2.根据权利要求1所述的清洗基座，其特征在于，所述清洗盘(10)盖设在所述排污槽(31)上并搭接在所述排污槽(31)的边缘上。

3.根据权利要求2所述的清洗基座，其特征在于，所述第一盛水件(20)设置在所述排污槽(31)内并与所述清洗槽(11)的底壁相连，所述清洁液槽(21)与所述排污槽(31)互不连通。

4.根据权利要求1-3任一项所述的清洗基座，其特征在于，所述进水口(12)的高度高于所述排水口(13)的高度。

5.根据权利要求4所述的清洗基座，其特征在于，

所述排水口(13)设置在所述清洗盘(10)的底壁上；所述清洗盘(10)上设有凸出所述清洗盘(10)底壁面的第一凸台(14)，所述进水口(12)形成在所述第一凸台(14)的壁面上。

6.根据权利要求1-3任一项所述的清洗基座，其特征在于，所述上水组件包括可在自身转动下引水的引水轮(40)；所述引水轮(40)可转动的设置于所述进水口(12)，所述引水轮(40)被配置为可在所述清洁件的转动带动下转动，以将所述清洁液槽(21)内的清洁液带出至所清洗槽(11)内。

7.根据权利要求6所述的清洗基座，其特征在于，所述引水轮(40)通过水平转轴可转动的设置于所述进水口(12)内，所述引水轮(40)的部分结构位于所述进水口(12)上方，且所述引水轮(40)的下部伸入所述清洁液槽(21)。

8.根据权利要求6所述的清洗基座，其特征在于，所述清洗槽(11)内放置有所述清洁件时，所述引水轮(40)周向边缘和所述清洁件相互接触，并可被所述清洁件带动而转动。

9.根据权利要求6所述的清洗基座，其特征在于，

所述引水轮(40)沿自身周向设有多个间隔设置的取水槽(41)，所述取水槽(41)的开口和所述引水轮(40)的径向具有夹角，且所述引水轮(40)上的各所述取水槽(41)均沿所述引水轮(40)的同一转动方向。

10.根据权利要求9所述的清洗基座，其特征在于，所述引水轮(40)具有凸出于所述引水轮(40)周向边缘的推动部(42)和凹陷部(43)，所述凹陷部(43)朝向所述引水轮(40)的转轴一侧凹陷，以形成取水槽(41)，所述推动部(42)面向所述引水轮(40)的周向外侧，以使所述引水轮(40)在施加于所述推动部(42)的外力作用下转动。

11.根据权利要求6所述的清洗基座，其特征在于，所述上水组件包括至少两个所述引水轮(40)，各所述引水轮(40)间隔排布。

12.根据权利要求6所述的清洗基座，其特征在于，所述清洗盘(10)上还设有注液口(15)，所述注液口(15)与所述清洁液槽(21)相连通，所述注液口(15)的高度大于所述引水轮(40)相对所述清洗槽(11)底壁面的高度。