[实用新型]一种半导体器件用清洗设备

权利要求书

1.一种半导体器件用清洗设备，包括清洗盒(1)，其特征在于：所述清洗盒(1)的外壁固定安装有固定座(2)，所述固定座(2)的内部固定安装有电机(3)，所述电机(3)的输出轴通过联轴器固定安装有螺纹杆(4)，所述螺纹杆(4)的外部螺纹连接有螺纹块(5)，所述螺纹块(5)的外壁固定安装有连接架(7)，所述螺纹杆(4)的一端固定安装有限位块(6)，所述连接架(7)的外壁固定安装有支撑板(8)，所述支撑板(8)的内壁开设有通孔(9)，所述清洗盒(1)的内壁固定安装有限位条(10)；

所述清洗盒(1)的内部固定安装有安装架(11)，所述安装架(11)的内部固定安装有加热金属(12)，所述清洗盒(1)的底部固定安装有振动电机(13)，所述清洗盒(1)的底部固定安装有连接板(14)，所述连接板(14)的内部活动连接有滑杆(15)，所述滑杆(15)的一端固定安装有连接块(17)，所述连接块(17)的一侧固定安装有第一弹簧(16)，所述连接块(17)的底部固定安装有缓冲组件(18)，所述连接块(17)通过缓冲组件(18)活动连接有底板(19)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述支撑板(8)的内部开设有滑槽，所述滑槽的尺寸与限位条(10)的尺寸相吻合。

3.根据权利要求1所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述连接板(14)的数量为两个，且两个连接板(14)以清洗盒(1)的水平中线为对称轴对称设置。

4.根据权利要求1所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述缓冲组件(18)的数量为四个，且每两个缓冲组件(18)为一组，每组缓冲组件(18)以清洗盒(1)的水平中线为对称轴对称设置。

5.根据权利要求1所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述缓冲组件(18)包括固定设置在连接块(17)底部的限位柱(181)，所述限位柱(181)的外壁活动连接有限位桶(182)，所述限位桶(182)的一端与底板(19)的底部固定连接，所述连接块(17)的底部固定安装有第二弹簧(183)，所述第二弹簧(183)的一端与底板(19)的顶部固定连接。

6.根据权利要求5所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述限位柱(181)的外表面直径等于限位桶(182)的内表面直径，所述限位柱(181)的中轴线与限位桶(182)的中轴线相重合。

7.根据权利要求1所述的一种半导体器件用清洗设备，其特征在于：所述通孔(9)的数量为若干个，且若干个通孔(9)在支撑板(8)的内部呈等间距分布。