[实用新型]一种密封环双面密封面研磨装置

权利要求书

1.一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，包括底座(1)，设置在底座(1)上的夹持机构(8)，设置在底座(1)上且相对夹持机构(8)相对设置的两个研磨机构；所述研磨机构包括设置在底座(1)上的调节机构，安装在调节机构上的电机(3)，一端连接电机(3)的主轴、另一端安装有研磨盘(7)的转轴(6)，以及安装在调节机构上的定位机构；所述转轴(6)贯穿定位机构。

2.根据权利要求1所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述定位机构包括设置在调节机构上的定位套筒(4)，套设在转轴(6)上且位于定位套筒(4)内部的定位轴承(5)；所述定位轴承(5)的外圈与定位套筒(4)的内壁接触。

3.根据权利要求2所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述调节机构包括设置在底座(1)上的滑轨(14)，通过滑块(13)安装在滑轨(14)上的安装板(2)；所述电机(3)和定位套筒(4)安装于安装板(2)上。

4.根据权利要求3所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述安装板(2)上设置有用于锁紧滑块(13)的定位螺栓(16)。

5.根据权利要求4所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述研磨盘(7)上设置有定位盘(15)。

6.根据权利要求5所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述夹持机构(8)包括安装在底座(1)上的下夹持块(17)，通过锁紧螺栓(12)活动连接在下夹持块(17)上的上夹持块(9)；所述上夹持块(9)和下夹持块(17)上均设置有夹持腔(10)。

7.根据权利要求6所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述夹持腔(10)内活动设置有夹瓣(11)。

8.根据权利要求7所述的一种密封环双面密封面研磨装置，其特征在于，所述夹持腔(10)和夹瓣(11)均呈圆弧状。