[实用新型]一种钝化接触太阳电池、组件和系统有效

专利信息
申请号: 202121828960.9 申请日: 2021-08-05
公开(公告)号: CN215869404U 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 沈承焕;季根华;赵影文;杜哲仁;陈嘉;林建伟 申请(专利权)人: 泰州中来光电科技有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/054;H01L31/0224
代理公司: 北京金之桥知识产权代理有限公司 11137 代理人: 文智霞
地址: 225500 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 钝化 接触 太阳电池 组件 系统
【权利要求书】:

1.一种钝化接触太阳电池,包括硅基体,所述硅基体的正面依次设有p+发射极、正面钝化减反膜及设于p+发射极表面并延伸至正面钝化减反膜外的正面电极,所述硅基体的背面依次设有隧穿氧化层、掺杂多晶硅层、背面钝化膜和背面电极,其特征在于:所述掺杂多晶硅层的表面为次级陷光结构,所述背面电极经背面钝化膜设置于所述次级陷光结构的表面;所述背面钝化膜的厚度为30~100nm。

2.根据权利要求1所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述硅基体的正面为陷光结构,且硅基体的背面为平面结构或陷光结构。

3.根据权利要求1或2所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述次级陷光结构为纳米级孔洞结构,孔洞大小为50~300nm、孔洞深度为50~300nm。

4.根据权利要求1所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述硅基体为N型硅基体。

5.根据权利要求1所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述p+发射极为掺杂硼的p+发射极,所述掺杂多晶硅层为掺杂磷的n+多晶硅层。

6.根据权利要求1或5所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述隧穿氧化层是厚度为1~2nm的氧化硅。

7.根据权利要求1所述的一种钝化接触太阳电池,其特征在于,所述正面钝化减反膜是具有三氧化二铝钝化层的减反膜;所述背面钝化膜是氮化硅钝化膜。

8.一种太阳能电池组件,包括由上至下依次设置的正面材料层、正面封装层、太阳电池、背面封装层和背面材料层,其特征在于:所述太阳电池是权利要求1-7任一项所述的一种钝化接触太阳电池。

9.一种太阳能电池系统,包括一个或一个以上的太阳能电池组件,其特征在于:所述太阳能电池组件是权利要求8所述的一种太阳能电池组件。

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