[实用新型]一种用于清洁治具的装置

说明书

本申请公开了一种用于清洁治具的装置，其包括：本体，包括承载面，所述承载面用于放置治具；罩壳，罩设于所述承载面，所述罩壳上设置有第一开孔；吸尘组件，用于收集污染物，所述吸尘组件连接至所述第一开孔，以使所述罩壳内的所述污染物进入所述吸尘组件内，并将所述污染物收集。本申请通过罩壳罩设于承载面上，将污染物罩设，避免污染物污染周围的空间，然后，通过吸尘组件吸收罩壳内的污染物，并将污染物收集，进而从根本上解决污染物再次污染治具。

技术领域

本实用新型一般涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种用于清洁治具的装置及电镀设备。

背景技术

芯片是高精度的产品，对制造环境有很高的要求。

在清洁治具时会产生大量微小灰尘，微小灰尘会掉落或者漂浮于制造环境中，导致制造环境的污染，进而治具再次受到污染。

实用新型内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种用于清洁治具的装置及电镀设备。

本申请提供一种用于清洁治具的装置，其包括：

本体，包括承载面，所述承载面用于放置治具；

罩壳，罩设于所述承载面，所述罩壳上设置有第一开孔；

吸尘组件，用于收集污染物，所述吸尘组件连接至所述第一开孔，以使所述罩壳内的所述污染物进入所述吸尘组件内，并将所述污染物收集。

作为可选的方案，所述本体上设置有空腔，所述承载面上设置有若干个与所述空腔连通的第一漏尘孔。

作为可选的方案，所述空腔位于承载面的正下方，所述空腔自上至下逐渐减小。

作为可选的方案，所述空腔底部对应的本体的表面上设置有第二开孔，所述第二开孔用于与所述吸尘组件连接。

作为可选的方案，所述罩壳包括侧壁，所述侧壁上设置有操作口，所述操作口用于进行清洗作业。

作为可选的方案，所述承载面远离所述操作口的位置还设置有第二漏尘孔，所述第二漏尘孔大于所述第一漏尘孔。

作为可选的方案，还包括围挡组件，所述围挡组件朝向所述操作口设置。

作为可选的方案，所述围挡组件包括滑轨、若干个滑块及柔性的围挡件，各所述滑块与所述滑轨滑动配合，所述围挡件连接至各所述滑块，各所述滑块沿所述滑轨滑动且相邻两所述滑块间距扩大，以使所述围挡展开；各所述滑块沿所述滑轨滑动且相邻两所述滑块间距缩小，以使所述围挡件收拢。

作为可选的方案，所述滑轨与所述罩壳之间存在间距，自所述滑轨两端向所述罩壳方向延伸，并连接至所述罩壳上。

作为可选的方案，所述吸尘组件包括抽气泵、过滤器及连接管，所述连接管的一端连接至所述第一开孔，所述连接管的另一端连接至所述抽气泵，所述过滤器设置于连接管内。

本申请通过罩壳罩设于承载面上，将污染物罩设，避免污染物污染周围的空间，然后，通过吸尘组件吸收罩壳内的污染物，并将污染物收集，进而从根本上解决污染物再次污染治具。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本实用新型实施例提供的一种光学用于清洁治具的装置的轴测图；

图2为图1的A-A方向的剖面图；

图3是本实用新型实施例提供的一种光学用于清洁治具的装置的俯视图。

具体实施方式