[实用新型]一种电解铜箔热处理装置

权利要求书

1.一种电解铜箔热处理装置，包括有箱体、控制器和加热机构，加热机构设置于箱体中并与控制器连接，其特征在于：所述加热机构安装在箱体的下部，在箱体中设置有支撑架，支撑架上设置有若干铜箔母卷放置位，通过支撑架支撑起各铜箔母卷，以使铜箔母卷与加热机构之间具有一段用于热量扩散的空间；在箱体的顶部设置有上下结构的双滑盖，通过滑动上滑盖或下滑盖使二者层叠而露出用于吊装铜箔母卷的开口。

2.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：在箱体的上部两侧边缘分别设置有上滑轨，上滑轨下方设置有下滑轨，两者之间具有可容置下滑盖的空间；上滑盖安装在上滑轨上，下滑盖安装在下滑轨上，上滑盖和下滑盖分别形成可沿各自所在滑轨左右滑动的结构。

3.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：所述上滑盖和下滑盖具有相同的长度，二者滑至相互层叠后使箱体露出一半开口。

4.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：在支撑架的顶部两侧各设置有支撑板，两支撑板顶端开设有相互对齐的半圆形槽，铜箔母卷被吊装进箱体后通过阴极辊的支撑轴架放在支撑板的半圆形槽中，以使铜箔母卷悬于加热机构的上方。

5.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：在箱体的侧壁上设置有对流风扇，对流风扇与控制器连接，并且对流风扇对准加热机构与铜箔母卷之间的空间。

6.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：在箱体的侧壁上还设置有进风口，进风口连通加热机构所在的空间。

7.根据权利要求1所述的电解铜箔热处理装置，其特征在于：所述加热机构安装在箱体的底板上，所述支撑架亦安装在该底板上，并且加热机构设置支撑架围成的空间中。