[实用新型]一种超纯水颗粒的二次抛光处理装置有效

专利信息
申请号: 202121272619.X 申请日: 2021-06-08
公开(公告)号: CN215161727U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 陈炜彧;周伟;戎宇舟;高康;张浩 申请(专利权)人: 中国电子系统工程第二建设有限公司
主分类号: C02F9/04 分类号: C02F9/04;C02F103/04
代理公司: 无锡盛阳专利商标事务所(普通合伙) 32227 代理人: 张宁;顾吉云
地址: 214000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 超纯水 颗粒 二次 抛光 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种超纯水颗粒的二次抛光处理装置,其包括超滤装置一和超滤装置二,所述超滤装置一的进水口、所述超滤装置二的进水口分别通过进水阀一、进水阀二与总进水口连接,所述超滤装置一的产水口、所述超滤装置二的产水口分别通过产水阀一、产水阀二与产水排出口连接,其特征在于:所述超滤装置一的产水口还通过切换阀与所述超滤装置二的进水口连接。

2.根据权利要求1所述的一种超纯水颗粒的二次抛光处理装置,其特征在于:所述超滤装置一的浓水出口和所述超滤装置二的浓水出口分别通过浓水阀一、浓水阀二与浓水排出口连接。

3.根据权利要求2所述的一种超纯水颗粒的二次抛光处理装置,其特征在于:所述总进水口,所述产水排出口和所述浓水排出口分别连接有超滤进水阀、产水排出阀和浓水排出阀。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种超纯水颗粒的二次抛光处理装置,其特征在于:所述产水排出口还连接有颗粒计。

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