[实用新型]一种低辐射镀膜玻璃

说明书

本申请适用于玻璃技术领域，提供了一种低辐射镀膜玻璃，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片，氮化硅锆层，层叠结合于所述玻璃基片的表面；功能膜层，层叠结合于氮化硅锆层的外表面，所述氮化硅锆层和功能膜层采用真空磁控溅射沉积法依次沉积于玻璃基片的表面，在降低镀膜玻璃辐射率的前提下，同时降低其对可见光的反射率和透过率，实现低反低透的效果。

技术领域

本申请涉及玻璃领域，更具体地说，是涉及一种低辐射镀膜玻璃。

背景技术

玻璃由于其良好的热学性能被广泛的应用，随着人们生活水平的逐步提高，以及越来越严格的节能政策的颁布，普通的低辐射镀膜玻璃已经不能满足许多地区对玻璃节能方面的需求，特别是华南地区为了减少光污染，深圳市明确规定室外反射率不得超过20％，但同时又对遮阳系数有着极高的标准。然而，目前的低辐射镀膜玻璃要想遮阳系数低，反射会随之变高，相反反射低，对应的玻璃的透光率就会很高，遮阳系数就也会变高。因此，市场上为了达到低反低透的效果，往往选择用灰玻来替代白玻进行镀膜，达到低反低透的效果。然而，低辐射镀膜对基片的新鲜度要求较高，需采用三个月内生产的原片，但国内灰玻原片厂家通常一年生产一次，选用灰玻容易产生基片发霉氧化等质量缺陷的问题，制造成本大幅增加，且供货有较大阻力。

实用新型内容

本申请的目的在于提供一种低辐射镀膜玻璃，旨在解决现有技术低辐射白玻无法实现可见光低反射率和低透过率的技术问题。

为实现上述目的，本申请采用的技术方案如下：

提供一种低辐射镀膜玻璃，包括：

玻璃基片；

氮化硅锆层，层叠结合于所述玻璃基片的表面；

功能膜层，层叠结合于氮化硅锆层的外表面。

进一步地，所述玻璃基片为白玻基片。

进一步地，所述氮化硅锆层的厚度为2-5nm。

进一步地，所述功能膜层由至少一个单元功能膜层经层叠形成，其中，所述单元功能膜层包括电介质层、功能层、阻挡层和保护层，且沿背离所述玻璃基片的延伸方向，所述电介质层、功能层、阻挡层和保护层依次层叠结合。

进一步地，所述功能膜层由两个单元功能膜层经层叠形成，包括依次层叠结合的第一电介质层、第一功能层、第一阻挡层、第一保护层、第二电介质层、第二功能层、第二阻挡层、第二保护层。

进一步地，所述电介质层的所述电介质层的厚度为20-80nm。

进一步地，所述功能层的厚度为1-10nm。

进一步地，所述阻挡层的厚度为1-5nm；和/或

所述保护层的厚度为3-8nm。

进一步地，所述功能膜层的外表面还依次层叠有外层电介质层和耐磨层。

进一步地，所述外层电介质层的厚度为25-35nm；和/或

所述耐磨层的厚度为2-5nm。

本申请提供的低辐射镀膜玻璃的有益效果在于：

第一方面，本申请的低辐射镀膜玻璃，在玻璃基片和功能膜层之间增叠了氮化硅锆层，减小了玻璃基片对可见光的吸收率，同时减小了玻璃基片对对可见光的反射率和透过率，达到了低反低透的效果；

进一步地，在玻璃基片和功能膜层之间增叠了氮化硅锆层，玻璃基片采用白玻，可达到甚至优于灰玻的低反低透效果，用白玻替代灰玻，解决了灰玻供应短缺，玻片不新鲜容易发霉的问题，在确保镀膜玻璃低反低透的情况下，提升了产品质量。

附图说明