[实用新型]一种低辐射镀膜玻璃有效
| 申请号： | 202121141182.6 | 申请日： | 2021-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN216073589U | 公开（公告）日： | 2022-03-18 |
| 发明（设计）人： | 陈天宝;史建国;廖云;谢昆峰;曾永华 | 申请（专利权）人： | 广东旗滨节能玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;C03C17/22 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 张良 |
| 地址： | 517000 广东省河*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 辐射 镀膜 玻璃 | ||
1.一种低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括：
玻璃基片，所述玻璃基片为白玻；
氮化硅锆层，层叠结合于所述玻璃基片的表面，所述氮化硅锆层的厚度为2-5nm；
功能膜层，层叠结合于氮化硅锆层的外表面。
2.根据权利要求1所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能膜层由至少一个单元功能膜层经层叠形成，其中，所述单元功能膜层包括电介质层、功能层、阻挡层和保护层，且沿背离所述玻璃基片的延伸方向，所述电介质层、功能层、阻挡层和保护层依次层叠结合。
3.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能膜层由两个单元功能膜层经层叠形成，包括依次层叠结合的第一电介质层、第一功能层、第一阻挡层、第一保护层、第二电介质层、第二功能层、第二阻挡层、第二保护层。
4.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述电介质层的所述电介质层的厚度为20-80nm。
5.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能层的厚度为1-10nm。
6.根据权利要求2所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述阻挡层的厚度为1-5nm；和/或
所述保护层的厚度为3-8nm。
7.根据权利要求1-6任一项所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能膜层的外表面还依次层叠有外层电介质层和耐磨层。
8.根据权利要求7所述的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述外层电介质层的厚度为25-35nm；和/或
所述耐磨层的厚度为2-5nm。
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