[实用新型]一种整片晶圆纳米压印光刻机有效

专利信息
申请号: 202121035046.9 申请日: 2021-05-14
公开(公告)号: CN214704303U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 孙立;胡金鑫;刘晖 申请(专利权)人: 青岛影创信息科技有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 上海港慧专利代理事务所(普通合伙) 31402 代理人: 卞小婷
地址: 266288 山东省青*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 整片晶圆 纳米 压印 光刻
【权利要求书】:

1.一种整片晶圆纳米压印光刻机,包括底板(1),其特征在于:所述底板(1)的顶部通过轴承转动连接有竖杆(5),所述竖杆(5)的外壁上方固接有多个支杆(9),所述支杆(9)的末端设有限位机构(6);

所述限位机构(6)包括承片台(601)、凹槽(602)、顶板(603)、弹簧一(604)、套环(605)、螺栓(606)和竖槽(607);

所述承片台(601)的内端与支杆(9)固定连接,所述承片台(601)的内壁加工有多个凹槽(602),所述凹槽(602)的内部转动连接有多个顶板(603),所述顶板(603)的转轴上安装有弹簧一(604),所述承片台(601)的外壁套接有套环(605),所述套环(605)的外端螺纹连接有螺栓(606),所述螺栓(606)的内端通过竖槽(607)与承片台(601)的外壁滑动连接。

2.根据权利要求1所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述底板(1)的顶部固接有机体(2),所述机体(2)的顶部贯穿栓接有气缸(3)。

3.根据权利要求2所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述气缸(3)的底部安装有压印头(4),且压印头(4)与最后侧的承片台(601)纵向对应设置。

4.根据权利要求1所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述承片台(601)呈环形等距分布。

5.根据权利要求1所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述承片台(601)的内部设有顶出机构(7);

所述顶出机构(7)包括方槽(701)、转板(702)、顶杆(703)、弹簧二(704)、滚轮(705)和弧面凸块(706);

所述方槽(701)加工于承片台(601)的内壁底部,所述方槽(701)的内部转动连接有转板(702),所述转板(702)的底部抵紧有顶杆(703),所述顶杆(703)的外壁贯穿承片台(601)的底部并延伸至其内部,所述顶杆(703)的外壁套接安装有弹簧二(704),所述顶杆(703)的底部安装有滚轮(705),所述滚轮(705)的下方设有弧面凸块(706),所述弧面凸块(706)固接于底板(1)的顶部。

6.根据权利要求5所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述弧面凸块(706)位于滚轮(705)圆周运动的轨迹上。

7.根据权利要求1所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述竖杆(5)的外侧设有传动机构(8);

所述传动机构(8)包括电机(801)、齿轮一(802)和齿轮二(803);

所述电机(801)安装于底板(1)的顶部,且电机(801)的输出端固接有齿轮一(802),所述齿轮一(802)的外壁啮合连接有齿轮二(803),所述齿轮二(803)固接于竖杆(5)的外壁。

8.根据权利要求7所述的一种整片晶圆纳米压印光刻机,其特征在于:所述齿轮一(802)和齿轮二(803)的齿数比为1/10。

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