[实用新型]一种磷铜球的轧制设备有效

专利信息
申请号: 202120835385.9 申请日: 2021-04-22
公开(公告)号: CN216175364U 公开(公告)日: 2022-04-05
发明(设计)人: 韦建敏;张晓蓓;张小波 申请(专利权)人: 仁寿华赐半导体材料有限公司
主分类号: B21B45/00 分类号: B21B45/00;B21B38/04;B21B13/02
代理公司: 成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218 代理人: 袁英
地址: 610000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 磷铜球 轧制 设备
【权利要求书】:

1.一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:包括底座(1)、减震座(2)和电动机(3),所述底座(1)一边侧中心位置通过螺栓连接有所述减震座(2),所述减震座(2)上侧通过螺栓连接有所述电动机(3),所述电动机(3)输出端一端设置有同步齿轮箱(4),所述底座(1)上部远离所述减震座(2)一侧设置有轧制箱(5),所述轧制箱(5)一侧设置有限位滑槽(17),所述轧制箱(5)远离所述限位滑槽(17)一侧对称设置有联轴器(6),所述轧制箱(5)内部与所述联轴器(6)输出端对应位置设置有轧制辊(14),所述轧制辊(14)靠近所述联轴器(6)一端中心设置有下料斗(7),所述下料斗(7)上侧中心位置设置有激光镭射外径测量仪(16),所述限位滑槽(17)下侧设置有斜撑架(9),所述斜撑架(9)上端对称设置有支撑环(10),所述支撑环(10)内部转动连接有转动环(21),所述转动环(21)内侧环向等间距设置有卡固环(19),所述转动环(21)中心位置设置有铜棒(20)。

2.根据权利要求1所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述下料斗(7)一端下侧设置有沥水架(8),所述轧制箱(5)内部对称设置有高压喷管(12),所述高压喷管(12)靠近所述轧制辊(14)上侧一端设置有降温喷头(13)。

3.根据权利要求2所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述轧制辊(14)靠近所述联轴器(6)一端设置有连接盘(15),所述轧制辊(14)远离所述连接盘(15)一端设置有限位滑块(18),其中一侧的所述限位滑块(18)一侧转动连接有螺杆。

4.根据权利要求1所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述支撑环(10)之间位置设置有预热线圈(11),所述预热线圈(11)与所述斜撑架(9)通过螺栓压接,所述轧制箱(5)与所述底座(1)通过螺栓连接。

5.根据权利要求3所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述下料斗(7)上端与所述轧制箱(5)内部通过螺栓连接,所述同步齿轮箱(4)与所述轧制辊(14)通过所述联轴器(6)和所述连接盘(15)连接,所述底座(1)与所述沥水架(8)通过螺栓连接。

6.根据权利要求3所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述限位滑槽(17)与所述限位滑块(18)滑动连接,所述降温喷头(13)与所述高压喷管(12)通过螺纹连接。

7.根据权利要求1所述的一种磷铜球的轧制设备,其特征在于:所述铜棒(20)与所述卡固环(19)滚动连接,所述卡固环(19)与所述转动环(21)焊接。

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