[实用新型]一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴

说明书

本实用新型涉及一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴，由第一雾化装置和第二雾化装置组成，第一雾化装置的一侧设有进液口，另一侧设有进气口，底部设有出液口；第一雾化装置内设有喷气管、与进液口连通的环形流道，喷气管的一侧与进气口连通，另一侧设有出气嘴；出气嘴处设有第一腔体，所述环形流道与第一腔体之间连通设有导流管；第二雾化装置的一端旋转连接于出液口上，另一端设有喷雾口，第二雾化装置内设有用于二次雾化的旋流件，旋流件的上方设有与第一腔体连通的第二腔体，下方设有与喷雾口连通的第三腔体；本实用新型以气为动力的同时，保证最初的气液分离，气液从两个腔道进入，直到混合腔压缩打散，避免产生气泡，有助于液滴的均匀。

技术领域

本实用新型属于喷嘴领域，具体涉及制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴。

背景技术

目前基于溶液的薄膜制备方法有旋涂法、丝网印刷法、浸涂法、喷墨打印法等，旋涂法可制备有机或无机薄膜，已广泛用于硅晶片、传感器、防护涂料和光学薄膜光致抗腐剂膜层的制备；其薄膜厚度、均匀性及表面形貌等取决于样品溶液的粘性、挥发性、浓度以及旋涂速度等；该方法影响因素较多且不易控制，制膜过程多在大气条件下进行，无法避免灰尘、空气及溶剂在薄膜中的残留，虽可快速成膜但无法保证成膜质量，从而影光电器件的工作性能；而真空喷射法是利用真空技术的一种新型喷射薄膜制备方法，目前也主要用于制备聚合物薄膜，该方法在高压下将聚合物溶液通过喷嘴喷入真空室并产生雾化，在真空环境下大部分溶剂迅速蒸发，雾滴到达基片时只有少量溶剂存留，残余溶剂在加热的基片上快速蒸发，最终在基片上形成聚合物薄膜；这种方法很大程度上减少了灰尘和溶剂在薄膜中的残留，且整个过程不需高温，避免聚合物结构变化；但是该喷射法采用的喷嘴还是传统方法中使用的喷嘴，一般都是制式加工且结构简单的喷嘴，达到的雾化效果并不理想。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种用于真空环境且雾化效率高的的高压雾化喷嘴。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：

一种制备聚合物薄膜的高压雾化喷嘴，由第一雾化装置和第二雾化装置组成，所述第一雾化装置的一侧设有进液口，另一侧设有进气口，所述进液口和进气口连线的一侧设有出液口；所述第一雾化装置内设有喷气管、与进液口连通的环形流道，所述喷气管的一侧与进气口连通，另一侧设有出气嘴；所述出气嘴处设有与出液口连通的第一腔体，所述环形流道与第一腔体之间连通设有导流管；所述第二雾化装置的一端旋转连接于出液口上，另一端设有喷雾口，所述第二雾化装置内设有用于二次雾化的旋流件，所述旋流件的上方设有与第一腔体连通的第二腔体，下方设有与喷雾口连通的第三腔体。

作为本实用新型的进一步优化方案，所述旋流件的轴心处贯穿设有直流道，旋流件的外壁面上开设有若干条均布的螺旋流道,所述螺旋流道的顶部入口与第二腔体连通，底部出口与第三腔体连通。

作为本实用新型的进一步优化方案，所述第二腔体内设有用于限位旋流件的螺旋弹簧，所述螺旋弹簧的底部与旋流件的顶部固定连接。

作为本实用新型的进一步优化方案，所述螺旋弹簧靠近旋流件一侧固定连接设有挡圈，所述挡圈的底面设有若干个凸块，所述旋流件的顶部端面上沿着相邻螺旋流道的顶部入口之间凹陷设有凹槽，所述凸块嵌设于凹槽中。

本实用新型的有益效果在于：

1、本实用新型以气为动力的同时，保证最初的气液分离，气液从两个腔道进入，直到混合腔压缩打散，避免产生气泡，有助于液滴的均匀，并保证颗粒较小；

2、并且本喷嘴分两步进行雾化，有助于雾化液滴形成更均匀，更微细的雾化液滴，提高成膜质量。

附图说明

图1是本实用新型的整体结构示意图；

图2是本实用新型的旋流件的结构示意图；

图3是本实用新型的挡圈结构示意图；