[实用新型]一种刻蚀废水处理设备

说明书

本实用新型公开了一种刻蚀废水处理设备，包括箱体，所述箱体相对的两侧壁上设置有进水口和出水口，所述箱体内设置有数个电极，相邻的两个所述电极分别带正电荷和负电荷，所述电极包括框架和设置在框架内的毛毡，所述框架的两侧和底部与所述箱体的内壁紧密贴合，水流从所述进水口进入后经过所有所述电极后再从出水口排出。使用时，废水从进水口进入到箱体内，然后经过数个电极后，再从出水口排出，相邻的电极分别带正电荷和负电荷，可以吸引废水中的阴阳离子，将水中含有的金属离子除去。同时水流再经过每一个电极时，都会被毛毡进行过滤，经过数次过滤后，水中的杂质基本被滤除。毛毡同时会缓和水流的速度，让水中的杂质能够沉淀到箱体底部。这种结构的设备，将过滤、沉淀和电吸附步骤集合在一套设备上进行，大大减少了设备的投资和场地的占用。

技术领域

本实用新型涉及废水处理领域，特别是一种刻蚀废水处理设备。

背景技术

刻蚀，它是半导体制造工艺，微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化（pattern）处理的一种主要工艺。所谓刻蚀，实际上狭义理解就是光刻腐蚀，先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理，然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。

刻蚀过程中，产生的废水会含有大量的颗粒物、金属离子和油脂等。一般对于这样的废水都先进行过滤和沉淀，除去废水中的颗粒物，然后进行电吸附，除去废水中的金属离子。

原来的设备，过滤、沉淀在一套设备内进行，电吸附又在另一套设备内进行，这样就大大增加了占地面积，因此有必要予以改进。

发明内容

本实用新型的目的是为了解决上述问题，设计了一种刻蚀废水处理设备，将过滤、沉淀和电吸附步骤集合在一套设备上进行。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种刻蚀废水处理设备，包括箱体，所述箱体相对的两侧壁上设置有进水口和出水口，所述箱体内设置有数个电极，相邻的两个所述电极分别带正电荷和负电荷，所述电极包括框架和设置在框架内的毛毡，所述框架的两侧和底部与所述箱体的内壁紧密贴合，水流从所述进水口进入后经过所有所述电极后再从出水口排出。使用时，废水从进水口进入到箱体内，然后经过数个电极后，再从出水口排出，相邻的电极分别带正电荷和负电荷，可以吸引废水中的阴阳离子，将水中含有的金属离子除去。同时水流再经过每一个电极时，都会被毛毡进行过滤，经过数次过滤后，水中的杂质基本被滤除。毛毡同时会缓和水流的速度，让水中的杂质能够沉淀到箱体底部。这种结构的设备，将过滤、沉淀和电吸附步骤集合在一套设备上进行，大大减少了设备的投资和场地的占用。

上述技术方案中，优选的，所述箱体的内壁上设置有卡槽，所述框架卡入所述卡槽内。卡槽和框架的配合，让水流只能从中间的毛毡位置通过，方便水流的过滤。

上述技术方案中，优选的，所述框架包括第一夹板和第二夹板，所述第一夹板的内圈设置有一圈凸起，所述凸起卡入所述第一夹板的内圈，所述毛毡的四周被夹紧在所述第一夹板和所述第二夹板之间。

利用本实用新型的技术方案制作的一种刻蚀废水处理设备，使用时，废水从进水口进入到箱体内，然后经过数个电极后，再从出水口排出，相邻的电极分别带正电荷和负电荷，可以吸引废水中的阴阳离子，将水中含有的金属离子除去。同时水流再经过每一个电极时，都会被毛毡进行过滤，经过数次过滤后，水中的杂质基本被滤除。毛毡同时会缓和水流的速度，让水中的杂质能够沉淀到箱体底部。这种结构的设备，将过滤、沉淀和电吸附步骤集合在一套设备上进行，大大减少了设备的投资和场地的占用。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是图1的局部放大示意图。

具体实施方式