[实用新型]一种滑移式半封闭清洗装置有效

专利信息
申请号: 202120708163.0 申请日: 2021-04-08
公开(公告)号: CN215965424U 公开(公告)日: 2022-03-08
发明(设计)人: 周夫之;王羿;何萍萍;叶明汉 申请(专利权)人: 上海睿度光电科技有限公司
主分类号: B08B15/04 分类号: B08B15/04;B08B5/04;B08B13/00;B08B5/02;B08B3/02;B08B15/02;F26B21/00
代理公司: 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 代理人: 吴玮;徐成泽
地址: 200433 上海市杨浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 滑移 封闭 清洗 装置
【说明书】:

实用新型涉及清洗装置技术领域,具体来说是一种滑移式半封闭清洗装置,包括:清洗机构;沿清洗机构的周向设置的防护机构,且防护机构的内侧设有周向风管,周向风管的出风方向为由上至下倾斜地指向防护机构的方向;以及承载机构,承载机构设有用于承载位,承载位的底部设有倾斜的排液面,排液面的底部设有排液孔。本实用新型同现有技术相比,其优点在于:能对工位上的待清洗物进行清洗,能实现风淋和风干的功能;承载机构具有自动吸附待清洗物的功能,能够实现待清洗物的绝对固定;能防止清洗液污染其他工位和设备;能实现废液的快速回收,能将废液迅速抽离,防止堆积;且能将残余气体抽走,减小对外部环境的影响,防止废液蒸汽污染工作环境。

技术领域

本实用新型涉及清洗装置技术领域,具体来说是一种滑移式半封闭清洗装置。

背景技术

在对基材进行相关的操作前,例如进行镀膜、蚀刻等操作前,需要对基材进行清洗,这是由于基材自身的洁净程度对后续的操作、及操作完成后的产品品质有着至关重要的影响。而现有清洗装置,在对基材进行清洗后,会有液体残留在承载基材的承载机构上,并且清洗过程中还会产生蒸汽气体,残留的液体和蒸汽气体将对工作环境进行污染,而将清洗过程中产生的残留液体和气体随意排放还将对外部环境造成污染。

同时,在清洗过程中,高压的清洗液将对基材产生冲击,从而使得基材发生位移甚至从承载机构脱落。

实用新型内容

本实用新型的目的在于解决现有技术的不足,提供一种滑移式半封闭清洗装置,解决下述技术问题中的至少一种:清洗后残留液体堆积在待清洗物下侧难以即时回收的问题;清洗后对工作环境的污染问题;废液、废气排放污染外部环境的问题;清洗过程中待清洗物难以固定的问题。

为了实现上述目的,设计一种滑移式半封闭清洗装置,包括:清洗机构;沿所述的清洗机构的周向设置的防护机构,且所述的防护机构的内侧设有周向风管,所述的周向风管的出风方向为由上至下倾斜地指向所述的防护机构的方向;以及承载机构,所述的承载机构设有用于承载待清洗物的承载位,所述的承载位的底部设有倾斜的排液面,所述的排液面的底部设有排液孔。

本实用新型还具有如下优选的技术方案:

所述的清洗机构包括基座,所述的基座上设有风刀组件和清洗喷管组件。

所述的清洗喷管组件包括:若干液路管及喷嘴;位于基座上的液路管安装孔,所述的液路管安装孔与所述的液路管相对应;位于所述的基座下侧的液路管夹结构,所述的液路管夹结构上设有与所述的液路管安装孔相对应的液路管定位孔。

所述的液路管夹结构的内截面由上至下逐渐收缩。

所述的清洗装置还包括连通至防护罩内的抽气管路。

所述的承载位内设有若干个用于承载待清洗物的支台,所述的支台上对应于所述的待清洗物的边沿设有挡边。

所述的风刀组件设有扁平状的出风口。

所述的承载位内设有负压吸附组件,用于固定所述的待清洗物。

所述的承载位的底部呈漏斗状,所述的排液孔位于漏斗状的承载位的底端中部。

所述的清洗装置还包括移动驱动机构,所述的移动驱动机构与所述的清洗机构相连。

实用新型的有益效果

本实用新型同现有技术相比,组合结构简单可行,易于安装与拆卸,其优点在于:能对工位上的待清洗物进行清洗,能实现风淋和风干的功能;承载机构具有自动吸附待清洗物的功能,能够实现待清洗物的绝对固定;能防止清洗液污染其他工位和设备;能实现废液的快速回收,能将废液迅速抽离,防止在承载机构的堆积;且能将残余气体抽走,减小对外部环境的影响,防止废液蒸汽污染工作环境。

附图说明

图1示例性示出了本实用新型的滑移式半封闭清洗装置的主视图。

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