[实用新型]一种自动高效平面靶材研磨装置有效

专利信息
申请号: 202120563539.3 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN214519538U 公开(公告)日: 2021-10-29
发明(设计)人: 李帅方;念雯雯;张雪凤 申请(专利权)人: 洛阳丰联科绑定技术有限公司
主分类号: B24B37/10 分类号: B24B37/10;B24B37/30;B24B37/34;B24B37/005;B24B55/06
代理公司: 郑州知己知识产权代理有限公司 41132 代理人: 杨小燕
地址: 471100 河南省*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 高效 平面 研磨 装置
【说明书】:

一种自动高效平面靶材研磨装置,属于靶材研磨设备技术领域,包括工作台、竖杆和横梁,所述工作台上部两侧分别设置滑槽和工件放置槽,所述滑槽内壁两侧中间设置凸起,所述竖杆底部设置横截面为工字型的底座,所述竖杆通过底座滑动设置在滑槽内,所述竖杆上部设置控制模块,所述横梁一端垂直固定设置在竖杆上,所述横梁外表面上滑动设置套筒,所述套筒底部连接电动研磨机构,所述电动研磨机构由伸缩转轴、电机、转筒、防尘护罩和研磨盘组成,所述控制模块与底座、套筒和电机电性连接。本实用新型可以自动、高效的对靶材表面进行研磨抛光,减少人力投入,并且能够在研磨过程中对产生的粉尘杂质进行吸附,减少后续靶材清洁过程的工作量,实用性强。

技术领域

本实用新型涉及靶材研磨设备技术领域,具体涉及一种自动高效平面靶材研磨装置。

背景技术

溅镀是一种物理气相沉积技术,主要是利用高能量的离子束或原子束射入靶材中,而使靶材表面的原子获得额外动能以脱离靶材,进而使原子得以飞溅至待镀物上而沉积成薄膜。靶材包含正板与背板,正板使用的材质即为待镀物所欲沉积的材质。例如,待镀物上若是欲沉积铝薄膜,则正板的材质为铝。正板与背板相贴合,其中背板略大于正板,由于靶材的正板与背板的材质不同,所以在制作靶材时,需要经过靶材绑定将正板与背板绑定在一起,才能做为靶材使用。

在一般的靶材制作过程中,通常是先分别提供正板以及背板,并分别清洗正板与背板,清洁干净后的正板与背板上涂布绑定层,以使正板与背板得以焊接在一起,绑定后的正板与背板需要再经过研磨操作,才能做为靶材使用,然而,在上述靶材的制作过程中,传统的研磨操作通常是由人工手持小型研磨机对靶材表面进行研磨,不仅耗时耗力,而且受人为因素影响下研磨质量无法保证,提高了废品率进而也提高了靶材的制作成本。

公开号为CN207206083U的专利公开了一种靶材研磨机,包括机架、基座、传动轮和抛光带,其特征在于:所述基座设置在所述机架的上方,所述传动轮设置在所述基座上,所述传动轮包括驱动轮、研磨调节轮和张紧调节轮,所述驱动轮、研磨调节轮和张紧调节轮呈三角形分布,所述驱动轮由第一电机驱动工作,所述抛光带(套设所述驱动轮、研磨调节轮和张紧调节轮上,所述驱动轮与所述研磨调节轮之间的抛光带下方设置有工作平台,所述工作平台下方设置有平台控制装置,所述平台控制装置包括转轴和旋转台,所述转轴与所述旋转台连接,且所述工作平台设置在 所述旋转台的上,所述转轴由第二电机驱动旋转,所述基座上开设有研磨调节槽和张紧调节槽,所述基座与所述机架之间设有滑块和与所述滑块相配合的滑轨,所述滑块在滑轨上能够沿着抛光带垂直运动。该技术方案通过设有研磨调节槽和张紧调节槽,可以调节驱动轮和研磨调节轮之间的研磨长度,在基座与机架之间设有滑块和与之配合的滑轨,可以使得抛光带垂直于工作平台运动,从而可以调节靶材宽度方向上的距离,进而可以进行大面积的靶材研磨,但是未对研磨过程中产生的粉尘进行处理,且抛光带易损耗,成本较高。

发明内容

有鉴于此,本实用新型提供了一种自动高效平面靶材研磨装置,通过控制模块控制电动研磨机构在靶材表面作往复运动从而实现自动高效的靶材研磨操作,减少人力的投入,同时提高了研磨质量。

为解决上述技术问题,本实用新型所采取的技术方案是:一种自动高效平面靶材研磨装置,包括工作台、竖杆和横梁,所述工作台上部一侧设置滑槽,所述工作台上部另一侧设置工件放置槽,所述滑槽内壁两侧中间设置凸起,所述竖杆底部设置横截面为工字型的底座,所述竖杆通过底座滑动设置在滑槽内,所述竖杆上部设置控制模块,所述横梁一端垂直固定设置在竖杆上,所述横梁外表面上滑动设置套筒,所述套筒底部连接电动研磨机构,所述电动研磨机构由伸缩转轴、电机、转筒、防尘护罩和研磨盘组成,所述伸缩转轴顶部与套筒活动连接,所述伸缩转轴底部与电机顶部连接,所述电机底部从上到下依次由转筒、防尘护罩和研磨盘连接而成,所述控制模块与底座、套筒和电机电性连接。

进一步的,所述工件放置槽为长方体凹槽,所述工件放置槽内两侧面固定连接弹簧,所述弹簧另一端设置固定条。

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