[实用新型]一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置

权利要求书

1.一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，包括加工罐（1），其特征在于：所述加工罐（1）的顶部固定安装有进料斗（2），所述加工罐（1）的内部活动安装有数量为两个的横杆（3），所述横杆（3）的外侧固定安装有破碎齿（4），所述加工罐（1）的右侧固定安装有第一电机（5），所述加工罐（1）的左侧固定安装有进液管（6），所述加工罐（1）的内部固定安装有隔板（7），所述隔板（7）的内部开设有通孔（8），所述加工罐（1）的底部固定安装有第二电机（9），所述第二电机（9）的输出端固定连接有转杆（10），所述转杆（10）的外侧固定安装有螺旋板（11），所述转杆（10）的外侧固定安装有研磨盘（12），所述通孔（8）的内侧固定安装有固定盘（13），所述加工罐（1）的底部开设有漏料孔（14），所述加工罐（1）的底部固定安装有集料箱（15），所述集料箱（15）的内部固定安装有过滤网（16），所述集料箱（15）的内部固定安装有加热管（17），所述集料箱（15）的右侧固定安装有加热器（18）。

2.根据权利要求1所述的一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，其特征在于：所述加工罐（1）为内部空心的长方体，所述第一电机（5）的输出端与横杆（3）固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，其特征在于：正面所述横杆（3）外侧的破碎齿（4）与背面横杆（3）外侧的破碎齿（4）相互交叉。

4.根据权利要求1所述的一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，其特征在于：所述转杆（10）位于通孔（8）的内侧，所述研磨盘（12）与固定盘（13）的数量均为两个，所述研磨盘（12）与固定盘（13）相互交叉。

5.根据权利要求1所述的一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，其特征在于：所述螺旋板（11）位于隔板（7）的上方，所述进液管（6）位于隔板（7）和横杆（3）之间。

6.根据权利要求1所述的一种用于高纯度纳米二氧化硅生产的全方位加工装置，其特征在于：所述加热器（18）与加热管（17）电连接，所述集料箱（15）为内部空心且顶面和底面均缺失的长方体。