[实用新型]掩膜版、光刻设备及显示面板

说明书

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，提供一种掩膜版、光刻设备及显示面板，上述掩膜版包括刻蚀区和衍射区，衍射区设于刻蚀区与保留区之间，并且衍射区环绕刻蚀区设置；采用上述掩膜版对显示面板的阵列基板进行刻蚀，通过环绕刻蚀区设置衍射区，曝光光束照射至掩膜版的衍射区并形成衍射现象，使照射到阵列基板的导电过孔的孔壁的曝光光束的通光量自刻蚀区朝保留区方向逐渐变化，使阵列基板的导电过孔的孔壁被缓慢刻蚀，从而有效减小阵列基板的导电过孔的孔壁坡度，有效避免阵列基板的导电过孔的孔壁和孔底部之间的连接处产生尖角而造成导电膜层断路，有效保证显示面板的显示效果。

技术领域

本实用新型涉及显示面板制造设备技术领域，尤其提供一种掩膜版、光刻设备及显示面板。

背景技术

在显示面板制造过程中，通常需要在显示面板的阵列基板上刻蚀形成导电过孔，但是，采用传统的光刻设备所形成导电过孔的坡度一般较大，使得导电过孔的底部与孔壁之间的连接处容易出现尖角，在阵列基板上涂覆导电膜层后，尖角容易将导电膜层刺破，使导电膜层断层而造成导电膜层断路，导致显示面板的显示效果较差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版、光刻设备及显示面板，旨在解决现有的光刻设备在显示面板的阵列基板上刻蚀形成导电过孔的坡度较大而容易导致显示面板的显示效果下降的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例采用的技术方案是：一种掩膜版，包括刻蚀区和衍射区，所述衍射区设于所述刻蚀区与所述保留区之间，并且所述衍射区环绕所述刻蚀区设置。

本实用新型提供的掩膜版至少具有以下有益效果：采用上述掩膜版对显示面板的阵列基板进行刻蚀工序时，曝光光束照射到掩膜版上，显示面板的阵列基板与掩膜版的保留区相对应的部位被保留，而与掩膜版的刻蚀区相对应的部位被刻蚀形成导电过孔，通过环绕刻蚀区设置衍射区，曝光光束照射至掩膜版的衍射区并形成衍射现象，使照射到阵列基板的导电过孔的孔壁的曝光光束的通光量自刻蚀区朝保留区方向逐渐变化，使阵列基板的导电过孔的孔壁被缓慢刻蚀，从而有效减小阵列基板的导电过孔的孔壁坡度，有效避免阵列基板的导电过孔的孔壁和孔底部之间的连接处产生尖角而造成导电膜层断路，有效保证显示面板的显示效果。

在其中一实施例中，所述衍射区包括沿所述刻蚀区的边缘依次间隔设置的多条衍射带，各所述衍射带的宽度朝远离所述刻蚀区的方向逐渐减少。

在其中一实施例中，所述衍射带的最大宽度为1.5μm-2μm。

在其中一实施例中，所述衍射带的长度为70μm-150μm。

在其中一实施例中，所述衍射区包括衍射环，所述刻蚀区设于所述衍射环内且所述刻蚀区的边缘与所述衍射环的边缘相互间隔设置。

在其中一实施例中，所述衍射环的边缘宽度为1μm-2μm。

在其中一实施例中，所述衍射区包括多个所述衍射环，各所述衍射环依次嵌套且相互间隔设置。

在其中一实施例中，各所述衍射环的边缘宽度朝远离所述刻蚀区的方向依次减小。

为实现上述目的，本实用新型还提供一种光刻设备，包括曝光机和上述掩膜版，所述曝光机用于向所述掩膜版照射曝光光束。

由于上述光刻设备采用了上述掩膜版的所有实施例，因而至少具有上述实施例的所有有益效果，在此不再一一赘述。

为实现上述目的，本实用新型还提供一种显示面板，包括阵列基板，所述阵列基板通过上述光刻设备刻蚀形成若干导电过孔。

通过采用上述光刻设备在显示面板的阵列基板上刻蚀若干导电过孔，有效减小上述各导电过孔的孔壁的坡度，有效避免阵列基板的导电过孔的孔壁和孔底部之间的连接处产生尖角而造成导电膜层断路，有效保证显示面板的显示效果。

附图说明