[实用新型]纳米氧化物粉体制备中用于形核沉淀的实验装置

说明书

纳米氧化物粉体制备中用于形核沉淀的实验装置，包括：装置本体，包括反应腔室和形成该反应腔室的壳体，壳体上设置有加热部件，壳体外部设置有保温层；多个进料口，设置在装置本体上部的壳体上与反应腔室连通；原料预混组件，设置在反应腔室中；搅拌组件，设置安装在装置本体上部的壳体上；多个测试口，设置在装置本体上部的壳体上，与反应腔室连通，用于设置测试部件；排料口，设置在装置本体下部的壳体上，用于释放反应腔室中的产物；排气口，设置在装置本体上部的壳体上，用于释放反应腔室中的气体；其中，从多个进料口中输入的原料在原料预混组件中预先混合，然后从原料预混组件的出料孔输出，进入反应腔室中参与形核沉淀过程。

技术领域

本申请属于靶材氧化物粉体制备技术领域，具体涉及一种纳米氧化物粉体制备中用于形核沉淀的实验装置。

背景技术

靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。靶材主要应用于光伏电池、平板显示器、大规模集成电路、微电子器件及装饰涂层等产业，是一种高附加值的功能材料，随着我国电子信息产业的迅速发展，我国已成为世界上溅射靶材需求最大的国家之一。获得高质量的原料粉体是制备高性能氧化物靶材的第一个重要工序，高性能氧化物靶材对粉体的基本要求是：高纯、一次粒径为纳米级别、粒度分布范围窄、颗粒形状规则、分散性好且活性高。

目前制备纳米氧化物粉体的方法主要有液相法和气相法两大类。常用的方法有溶胶-凝胶法、化学液相沉积法、醇盐水解法、微乳液法、水热法、微波合成法、柠檬酸凝胶燃烧法、化学气相沉淀法、溅射法以及蒸镀法等。液相法合成氧化物粉体成分均匀，粒度分布窄，形貌可控，可进行批量试验，适合产业化生产，但存在产品容易团聚、易引入杂质，使用原料种类多及步骤复杂需要特殊处理等问题。

工厂生产所使用的粉体制备设备较大，都是规模化并且在确定工艺下运行的装置，运行成本高且，不适合快速的进行靶材用粉体的创新研究，也不适合氧化物粉体的新产品开发。实验室通常利用玻璃等容器通过化学反应的方法制得粉体，但是产量比较少，一般为10～50克，而且每个工序都是人为操作，必须保证操作人员每次实验的准确和规范才能获得正确的结果，而且这个量级的产量只能进行粉体的基本特性研究，不适于靶材的创新研究或其他应用；同时由于操作和粉体制备过程为开放式，容易引入杂质；另外，由于粉体制备过程中每个环节都是人为操作，工艺的精确控制和重复性较低，不能实现靶材粉体制备的稳定性及连续性。

实用新型内容

为了至少解决以上提到现有技术存在的技术问题之一，本申请实施例公开了一种纳米氧化物粉体制备中用于形核沉淀的实验装置，该装置包括：

装置本体，包括反应腔室和形成该反应腔室的壳体，壳体上设置有为其进行加热的加热部件，壳体外部设置有保温层；

多个进料口，设置在装置本体上部的壳体上，与反应腔室连通；

原料预混组件，设置在反应腔室中，其上方设置有与进料口连通的进料孔，其下方设置有出料孔；

搅拌组件，设置安装在装置本体上部的壳体上，用于搅拌反应腔室中的混合液；

多个测试口，设置在装置本体上部的壳体上，与反应腔室连通，用于设置测试部件；

排料口，设置在装置本体下部的壳体上，用于释放反应腔室中的产物；

排气口，设置在装置本体上部的壳体上，用于释放反应腔室中的气体；

其中，从多个进料口中输入的原料在原料预混组件中预先混合，然后从原料预混组件的出料孔淋浴形式输出，进入反应腔室中参与形核沉淀过程。

一些实施例公开的纳米氧化物粉体制备中用于形核沉淀的实验装置，原料预混组件的出料口设置为多个，间隔均匀分布在原料预混组件的下方。