[实用新型]一种光学成像装置及光学成像设备有效

专利信息
申请号: 202120214456.3 申请日: 2021-01-26
公开(公告)号: CN212722577U 公开(公告)日: 2021-03-16
发明(设计)人: 耿继新;洪志坤;钟凡;郑增强;欧昌东 申请(专利权)人: 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;G01N21/95
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 张凯
地址: 430205 湖北省武*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光学 成像 装置 设备
【说明书】:

实用新型涉及一种光学成像装置及光学成像设备,用于对物面进行成像,其包括:壳体;镜头,其安装于所述壳体的前端;用于成像的光电传感器,其安装于所述壳体内,且位于所述镜头的一侧;分束器,其位于所述镜头的后方,所述分束器用于使所述物面反射的光波照射至所述光电传感器;光源或光谱探测器择一的安装于所述分束器的一侧,所述光源用于发出光波并经过所述分束器照射至所述物面,所述光谱探测器用于接收所述物面反射至所述分束器上的部分光波。本实用新型涉及的一种光学成像装置及光学成像设备,既能实现大放大倍率显微成像,又能实现光谱探测,操作便捷,对位误差小,且可以改善物面的光照强度,使得成像较为清晰,提升节拍。

技术领域

本实用新型涉及显微成像技术领域,特别涉及一种光学成像装置及光学成像设备。

背景技术

随着显示行业的发展,尤其是Mini/Micro LED(发光二极管)技术的日趋成熟,大放大倍率显微成像及光谱探测是应用于Mini/Micro LED的缺陷检测及显示特性检测的常用手段。

相关技术中,大放大倍率显微成像与光谱探测是不同的光学路径,一般在不同的装置上进行,在对物面进行大放大倍率显微成像与光谱探测时,需要分步使用不同的装置进行测量,不够便捷,且物面在多个装置之间移动,每次都需要进行重新对位,存在对位误差大等缺陷;同时,当前应用场景,大放大倍率显微成像常受工作距的影响,物面较暗,高倍率情况受较暗光线的影响,使得成像不清晰,影响成像质量,且在光线较暗的情况下,需要大量的时间进行成像调整,使得成像时间较长。

因此,有必要设计一种新的光学成像装置及光学成像设备,以克服上述问题。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种光学成像装置及光学成像设备,以解决相关技术中在对物面进行大放大倍率显微成像与光谱探测时,需要分步使用不同的装置进行测量,不够便捷,且对位误差大,同时,大放大倍率显微成像不清晰、成像时间长的问题。

第一方面,提供了一种光学成像装置,用于对物面进行成像,其包括:壳体;镜头,其安装于所述壳体的前端;用于成像的光电传感器,其安装于所述壳体内,且位于所述镜头的一侧;分束器,其位于所述镜头的后方,所述分束器用于使所述物面反射的光波照射至所述光电传感器;光源或光谱探测器择一的安装于所述分束器的一侧,所述光源用于发出光波并经过所述分束器照射至所述物面,所述光谱探测器用于接收所述物面反射至所述分束器上的部分光波。

一些实施例中,所述分束器倾斜设置于所述壳体内,且所述分束器前反射面的法线与所述镜头的中心光线之间具有第一夹角,所述分束器前反射面的法线与所述光源光波发射面的法线之间具有第二夹角,所述第二夹角与所述第一夹角相等。

一些实施例中,所述分束器倾斜设置于所述壳体内,且所述分束器前反射面的法线与所述镜头的中心光线之间具有第一夹角,所述分束器前反射面的法线与所述光谱探测器光波接收面的法线之间具有第三夹角,所述第三夹角与所述第一夹角相等。

一些实施例中,所述壳体具有等距平面,所述等距平面与所述光电传感器感光面关于所述物面或者所述分束器前反射面共轭,且所述等距平面对应所述分束器设有开口;所述光源或所述光谱探测器择一的安装于所述等距平面,且当所述光源安装于所述等距平面时,所述光源发出的光波通过所述开口照射至所述分束器;当所述光谱探测器安装于所述等距平面时,所述分束器上的部分光波通过所述开口照射至所述光谱探测器。

一些实施例中,所述光源的光波发射面与所述光电传感器的感光面关于所述物面共轭。

一些实施例中,所述光谱探测器的光波接收面与所述光电传感器的感光面关于所述分束器的前反射面共轭。

一些实施例中,所述光源的光波发出面安装有用于限制光波扩散角的光学元器件。

一些实施例中,所述光学元器件为光纤面板或者可控制光的漫反射角的扩散片。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司,未经武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202120214456.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top