[发明专利]一种MOS管开启电压的测量方法在审

专利信息
申请号: 202111667264.9 申请日: 2021-12-31
公开(公告)号: CN114578202A 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 杨靖;毛渲;陈巍;成家柏 申请(专利权)人: 杭州广立微电子股份有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26
代理公司: 江苏坤象律师事务所 32393 代理人: 夏纯;赵新民
地址: 310012 浙江省杭州市西*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 mos 开启 电压 测量方法
【说明书】:

发明提供一种MOS管开启电压的测量方法,包括:获取待测MOS管,待测MOS管的源极目标电流为Itarget;设定施加在栅极的电压区间为(Vmin,Vmax),量测Vmin、Vmax条件下的源极电流Imin、Imax;IminItargetImax执行步骤S4;ItargetImin或ItargetImax,结束本次测量;步骤S4在栅极施加电压(Vmin+Vmax)/2,测量源极电流Itmp;(Itmp‑Itarget)a×Itarget时,执行步骤S6;(Itmp‑Itarget)a×Itarget,判断Itmp与Itarget的大小关系,若ItmpItarget,将Vmin更新为(Vmin+Vmax)/2,循环至步骤S4;若ItmpItarget,将Vmax更新为(Vmin+Vmax)/2,循环至步骤S4;步骤S6对最终的Vmin、Vmax、(Vmin+Vmax)/2及源极电流Imin、Imax、Itmp进行曲线或线性拟合,根据Itarget得到Vtarget,即为待测MOS管的开启电压,或将(Vmin+Vmax)/2认定为Vtarget。上述测量方法,可以通过不断的对比测量得到MOS管的开启电压,大大减少了测量的次数。

技术领域

本发明属于半导体器件测试的技术领域,尤其涉及一种MOS管开启电压的测量方法。

背景技术

MOS管是金属(Metal)-氧化物(Oxide)-半导体(Semiconductor)场效应晶体管。在MOS管的制造过程中需要对其电学参数进行测量以监控制造工艺,其中,开启电压(Vth)是一个很重要的直流参数;此外,在MOS管制造完成后,也需要对其开启电压进行测量,以此来判断MOS管的工作性能是否达到厂商的要求。

开启电压(Vth),又称阈值电压,是使源极S和漏极D之间开始形成导电沟道所需的栅极电压。目前,现有的MOS管开启电压的测量方法为扫描法,即在源极S加固定电压,在栅极G从起始电压开始以固定的扫描步长逐步施加电压至截止电压,同时测量源极电流,当源极电流达到设定的目标电流时,此时的栅极电压即为该MOS管的开启电压。

以扫描法进行开启电压的测量时,对于每一个待测MOS管,都需要从起始电压开始,以设定的步长增加电压值。目前,主流的测试需求对扫描步长的规定较小,一般均在5mV以内,而正常的MOS管开启电压在几百毫伏,这就需要上百次的测量才能达到目标电流。在测试项较多时,测试时间就会大大延长,影响了测试效率。目前的优化方法是通过先增大扫描步长,在达到一定的电流值后再用规定的步长进行扫描,直至达到目标电流,这种方法可以在一定程度上减少测试次数,提高测试效率,但其本质上还是扫描法,测试效率不高。

因此,有必要提供一种能够快速测量MOS管开启电压、提高测试效率的测量方法。

发明内容

本发明提供一种MOS管开启电压的测量方法,可快速、精确地对MOS管的开启电压进行测量,测试效率高。

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