[发明专利]含芳基的甘脲类低聚物与应用

权利要求书

1.一种含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，其结构式为：

其中，R1由苯环数在20以内的芳基与碳原子数在20以内的烷基、烷氧基或两个甘脲分子偶联得到，R2、R3为苯环数在20以内的芳基或碳原子数在20以内的烷基。

2.根据权利要求1所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，R1由苯环数在20以内的芳基与碳原子数在20以内的烷基或烷氧基偶联得到。

3.根据权利要求1所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，R2、R3为氢、苯环数均在20以内的芳基或碳原子数在20以内的烷基。

4.根据权利要求1所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，碳原子数在20以内的烷基为羟基取代的甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、环己基、取代环己基、降冰片基、取代降冰片基、金刚烷基、取代金刚烷基或其它多环结构中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，碳原子数在20以内的烷氧基为醚基、酯基、环氧基中的一种或多种。

6.根据权利要求2所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，R1中的烷基、烷氧基的数量比为(0.1-3.9)：(0.1-3.9)。

7.根据权利要求6所述的含芳基的甘脲类低聚物，其特征在于，所述R1中的烷基、烷氧基偶联的数量比为(0.1-3.9)：(0.1-3)。

8.一种含芳基的甘脲类低聚物的应用，其特征在于，在权利要求1-7中任意一项所述的含芳基的甘脲类低聚物中加入稀释剂，得到应用于抗反射涂层的甘脲类低聚物溶液。

9.根据权利要求8所述的含芳基的甘脲类低聚物的应用，其特征在于，所述稀释剂为甲醇、乙醇、异丙醇、丙二醇、丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、乳酸乙酯、γ-丁内酯、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、乙腈、N,N-二甲基甲酰胺中的一种或多种。

10.根据权利要求8所述的含芳基的甘脲类低聚物的应用，其特征在于，所述甘脲类低聚物溶液的浓度为33-36％。