[发明专利]一种易清洁涂料的制备方法及易清洁涂料在审

专利信息
申请号: 202111594057.5 申请日: 2021-12-23
公开(公告)号: CN114133867A 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 刘海涛;曹海琳;翁履谦;邵鹏聪 申请(专利权)人: 深圳市航天新材科技有限公司
主分类号: C09D183/08 分类号: C09D183/08;C09D183/06;C09D7/61
代理公司: 深圳市智胜联合知识产权代理有限公司 44368 代理人: 王月
地址: 518000 广东省深圳市南山区粤海街道科技南*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 清洁 涂料 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种易清洁涂料的制备方法,其特征在于,包括:

将纳米二氧化硅、烷基硅烷、非烷基硅烷、溶剂、水和催化剂,按照预设配比,在第一预设条件下进行反应,获得反应产物;

将所述反应产物在第二预设条件下进行减压蒸馏,获得成膜物质;

将100-200重量份的所述成膜物质、20-50重量份的填料、50-100重量份的颜料和0.1-2重量份的助剂混合均匀,获得易清洁涂料。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述将纳米二氧化硅、烷基硅烷、非烷基硅烷、溶剂、水和催化剂,按照预设配比,在第一预设条件下进行反应,获得反应产物,包括:

将1-10重量份的所述纳米二氧化硅、100-200重量份的所述烷基硅烷、5-30重量份的所述非烷基硅烷、50-100重量份的所述溶剂、5-20重量份的所述水和0.01-0.5重量份的所述催化剂,在45-65℃的温度下反应4-8h,获得所述反应产物。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述将所述反应产物在第二预设条件下进行减压蒸馏,获得成膜物质,包括:

将所述反应产物在50-70℃的温度和0.06-0.098MPa的真空度下进行减压蒸馏,获得所述成膜物质。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述烷基硅烷为kh131、kh132、kh313、kh330、kh242、kh480和kh580中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述非烷基硅烷为环氧基硅烷和/或含氟硅烷;其中,所述环氧基硅烷为kh560、kh561、kh78、kh781、kh1770、kh1771中的一种或几种组合;所述含氟硅烷为kh331、kh332、kh1331和kh1332中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂为甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇和异丁醇中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述催化剂为邻苯二甲酸、对苯二甲酸、甲酸和乙酸中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述填料为碳酸钙、云母、滑石粉、硫酸钡中的一种或几种组合;所述颜料为钛白粉、立德粉、氧化铁黄、酞菁蓝、酞菁绿、氧化铁红和炭黑中的至少一种。

9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述助剂为byk054、byk055、byk077、byk9075和byk9077中的至少一种。

10.一种根据权利要求1-9任一所述的制备方法制备得到的易清洁涂料,其特征在于,按重量份数计包括以下组分:成膜物质100-200、填料20-50份、颜料50-100份、助剂0.1-2份;其中,所述成膜物质的材料包括以下组分:纳米二氧化硅、烷基硅烷、非烷基硅烷、溶剂、水和催化剂。

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