[发明专利]一种纹理采样方法、设备、存储介质

说明书

本申请提供一种纹理采样方法、设备、存储介质，该方法包括：基于目标点确定纹理坐标；根据纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD_max；根据LOD_max确定各向异性多细节层次值LOD_aniso；根据LOD_max和LOD_aniso生成采样点；基于采样点计算目标点的纹理值。本申请根据各向同性多细节层次值LOD_max和各向异性多细节层次值LOD_aniso生成采样点；基于采样点计算目标点的纹理值，可以获得比各向同性采样更准确的纹理值，且节省资源、易于硬件实现。

技术领域

本申请涉及图形处理器技术领域，尤其涉及一种纹理采样方法、设备、存储介质。

背景技术

GPU(Graphics Processing Unit，图形处理器)在渲染过程中，需要将纹理图的某个部分贴到三维物体的表面，物体上的每个点都对应一个纹理坐标，纹理采样即根据片元的纹理坐标到纹理图中取对应位置的颜色。但由于被渲染图元中的片元数量与其对应纹理区域中纹理元素(texel)的数量不一定相同，直接使用最邻近采样可能导致过采样和欠采样。

通常的做法是使用Mipmap和双线性插值。

Mipmap是一组纹理图，分辨率按2的倍数逐渐缩小，直至1×1。当片元对应的纹理元素较多时，使用分辨率较低的纹理图，以避免过多的计算量。

片元的纹理坐标通常不是整数，此时，对最近的2×2纹理元素采样并通过双线性插值得到片元的纹理值。

上述采样是各向同性采样，适用于一个片元对应于一个正方形区域纹理元素的情况。如果片元对应的纹理区域不是正方形，而是矩形或平行四边形，那么用上述方法得到的纹理值的准确性较低。

发明内容

为了解决上述技术缺陷之一，本申请提供了一种纹理采样方法、设备、存储介质。

本申请第一个方面，提供了一种纹理采样方法，所述方法包括：

基于目标点确定纹理坐标；

根据所述纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD_max；

根据LOD_max确定各向异性多细节层次值LOD_aniso；

根据LOD_max和LOD_aniso生成采样点；

基于所述采样点计算所述目标点的纹理值。

可选地，所述基于目标点确定纹理坐标，包括：

获取目标点的纹理坐标(s₀,t₀)；

获取所述目标点水平方向邻点的纹理坐标(s₁,t₁)；

获取所述目标点垂直方向邻点的纹理坐标(s₂,t₂)。

可选地，所述根据所述纹理坐标计算各向同性多细节层次值LOD_max，包括：

确定第三值＝max{第一值，第二值}；

计算LOD_max＝log₂第三值。

可选地，所述根据LOD_max确定各向异性LOD，包括：