[发明专利]等离子清洗机在审
| 申请号： | 202111584883.1 | 申请日： | 2021-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN114308900A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 孔令民;钟军勇;邵文林;朱霆;周学慧;张凯 | 申请（专利权）人： | 深圳泰德半导体装备有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市恒程创新知识产权代理有限公司 44542 | 代理人： | 王韬 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 等离子 清洗 | ||
1.一种等离子清洗机，其特征在于，包括
等离子清洗机本体；
物料放置轨道，用于放置待清洗物料，所述物料放置轨道设于所述等离子清洗机本体内，所述物料放置轨道的裸露面喷涂有复合陶瓷材料。
2.如权利要求1所述的等离子清洗机，其特征在于，所述复合陶瓷材料由氧化铝和氧化硅组成，所述氧化铝占比65％至75％，所述氧化硅占比25％至35％。
3.如权利要求2所述的等离子清洗机，其特征在于，所述复合陶瓷材料通过等离子喷涂在所述物料放置轨道的裸露面。
4.如权利要求3所述的等离子清洗机，其特征在于，所述物料放置轨道包括多个支撑架和底座，多个所述支撑架设于所述底座上，所述支撑架用于放置所述待清洗物料，所述支撑架和所述底座的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
5.如权利要求4所述的等离子清洗机，其特征在于，所述支撑架包括固定支撑架和活动支撑架，所述活动支撑架与所述固定支撑架彼此交错间隔排布，所述固定支撑架和所述活动支撑架的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
6.如权利要求5所述的等离子清洗机，其特征在于，所述底座包括活动底板和固定导轨，所述活动底板可活动地设于所述固定导轨，所述活动支撑架固定于所述活动底板上，多个所述固定支撑架固定于所述固定导轨上，所述固定导轨和所述活动底板的每个裸露面均等离子喷涂有所述复合陶瓷材料。
7.如权利要求6所述的等离子清洗机，其特征在于，所述固定导轨呈中空设置，所述固定导轨的两侧均设有滑槽，所述活动底板可滑动地连接于两所述滑槽。
8.如权利要求7所述的等离子清洗机，其特征在于，所述活动底板连接有驱动件，所述驱动件驱动所述活动底板在所述滑槽上滑动。
9.如权利要求8所述的等离子清洗机，其特征在于，每个所述固定支撑架之间间距相等。
10.如权利要求8所述的等离子清洗机，其特征在于，多个所述活动支撑架与多个所述固定支撑架相互平行。
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