[发明专利]磁悬浮装置以及转子位置调节方法有效

专利信息
申请号: 202111574244.7 申请日: 2021-12-21
公开(公告)号: CN114221580B 公开(公告)日: 2023-01-31
发明(设计)人: 尹成科 申请(专利权)人: 苏州苏磁智能科技有限公司
主分类号: H02N15/00 分类号: H02N15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王晓燕
地址: 215000 江苏省苏州市中国(江苏)自由贸易试验*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 磁悬浮 装置 以及 转子 位置 调节 方法
【说明书】:

一种磁悬浮装置以及一种转子位置调节方法。该磁悬浮装置包括转子和定子。定子围绕转子设置或者转子围绕定子设置,定子包括永磁定子主体、第一磁性定子基片和第二磁性定子基片,并且在定子的轴向方向上永磁定子主体被夹置在第一磁性定子基片和第二磁性定子基片之间。第一磁性定子基片包括第一基片主体以及自第一基片主体朝向转子突起的第一突出部和第二突出部,第一突出部上缠绕有第一磁悬浮线圈,第二突出部上缠绕有第二磁悬浮线圈,在定子的轴向方向上第一突出部高于第二突出部以使得第一突出部和第一磁悬浮线圈对转子施加沿轴向方向向上的力而第二突出部和第二磁悬浮线圈对转子施加沿轴向方向向下的力。

技术领域

本公开至少一实施例涉及磁悬浮技术领域,尤其涉及一种磁悬浮装置以及一种转子位置调节方法。

背景技术

悬浮技术主要包括磁悬浮、光悬浮、声悬浮、气流悬浮、电悬浮、粒子束悬浮等,其中磁悬浮技术已经发展得比较成熟。在磁悬浮技术中,定子与转子之间的磁相互作用力使得转子悬浮并均匀地旋转,转子与定子之间无接触、无机械摩擦以使得磁悬浮技术尤其适用于对洁净度要求高的场合。

发明内容

根据本公开的实施例,提供一种磁悬浮装置。该磁悬浮装置包括:转子;定子,其中,所述定子围绕所述转子设置或者所述转子围绕所述定子设置,所述定子包括永磁定子主体、第一磁性定子基片和第二磁性定子基片,并且在所述定子的轴向方向上所述永磁定子主体被夹置在所述第一磁性定子基片和所述第二磁性定子基片之间。所述第一磁性定子基片包括第一基片主体以及自所述第一基片主体朝向所述转子突起的第一突出部和第二突出部,所述第一突出部上缠绕有第一磁悬浮线圈,所述第二突出部上缠绕有第二磁悬浮线圈,在所述定子的轴向方向上所述第一突出部高于所述第二突出部以使得所述第一突出部和所述第一磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述轴向方向向上的力而所述第二突出部和所述第二磁悬浮线圈对所述转子施加沿所述轴向方向向下的力。

例如,所述在所述定子的轴向方向上所述第一突出部高于所述第二突出部,包括以下情形之一:(1)在所述定子的轴向方向上,所述第一突出部的上表面高于所述第二突出部的上表面,并且所述第一突出部的下表面高于所述第二突出部的上表面;(2)在所述定子的轴向方向上,所述第一突出部的上表面高于所述第二突出部的上表面,并且所述第一突出部的下表面与所述第二突出部的上表面等高;以及(3)在所述定子的轴向方向上,所述第一突出部的上表面高于所述第二突出部的上表面,并且所述第一突出部的下表面位于所述第二突出部的上表面与所述第二突出部的下表面之间。

例如,所述转子包括转子主体以及从所述转子主体朝向所述定子突出的第一凸缘和第二凸缘,所述第一凸缘对应于所述第一磁性定子基片,所述第二凸缘对应于所述第二磁性定子基片;在所述转子的初始悬浮状态下,在所述定子的轴向方向上所述第一凸缘的中线与所述第一突出部的上表面与所述第二突出部的下表面之间的间距的中线大体齐平;在所述第一突出部和所述第一磁悬浮线圈对所述转子施加的沿所述轴向方向向上的力大于所述第二突出部和所述第二磁悬浮线圈对所述转子施加的沿所述轴向方向向下的力的情况下,所述转子自所述初始悬浮状态沿所述定子的轴向方向向上移动;并且在所述第一突出部和所述第一磁悬浮线圈对所述转子施加的沿所述轴向方向向上的力小于所述第二突出部和所述第二磁悬浮线圈对所述转子施加的沿所述轴向方向向下的力的情况下,所述转子自所述初始悬浮状态沿所述定子的轴向方向向下移动。

例如,在所述定子的轴向方向上,所述第一突出部和所述第二突出部的每个的厚度不小于所述第一凸缘的厚度。

例如,所述第一磁性定子基片包括多个所述第一突出部和多个所述第二突出部;并且所述第一基片主体具有圆形内边缘,多个所述第一突出部和多个所述第二突出部沿所述圆形内边缘的周向设置。

例如,多个所述第一突出部沿所述圆形内边缘的周向的尺寸彼此相等,并且多个所述第二突出部沿所述圆形内边缘的周向的尺寸彼此相等。

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