[发明专利]自旋多重度指定方法及装置

权利要求书

1.一种分子片的自旋多重度指定方法，其特征在于，包括：

获取分子片的类型，根据所述分子片的类型为所述分子片指定自旋多重度；

判断相邻两个所述分子片是否发生组合形成组合分子片，若发生组合，则根据所述相邻两个所述分子片的类型为所述组合分子片指定自旋多重度；

判断所述分子片是否发生裂分形成至少两个子分子片，若发生裂分，则获取所述子分子片的类型，根据所述子分子片的类型为所述子分子片指定自旋多重度。

2.根据权利要求1所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述获取分子片的类型，根据所述分子片的类型为所述分子片指定自旋多重度，包括：

判断所述分子片是否为特殊分子片，所述特殊分子片的自旋多重度被预先内置到存储器中；

若是，则从所述存储器中获取所述分子片的自旋多重度；

若否，则根据所述分子片的电荷数和核电荷数为所述分子片指定自旋多重度。

3.根据权利要求2所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述判断所述分子片是否为特殊分子片，包括：

获取所述分子片所包括的原子类型和原子坐标；

获取所述分子片的电荷数；

根据所述分子片所包括的原子类型和原子坐标和所述分子片的电荷数判断所述分子片是否为所述特殊分子片。

4.根据权利要求1所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述判断相邻两个所述分子片是否发生组合形成组合分子片，包括：

获取所述相邻两个所述分子片之间的距离；

若所述距离小于或等于第一预设阈值，则所述相邻两个所述分子片发生组合形成组合分子片。

5.根据权利要求1所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述根据所述相邻两个所述分子片的类型为所述组合分子片指定自旋多重度，包括：

判断所述相邻两个所述分子片的类型是否满足预设条件，满足所述预设条件的所述相邻两个所述分子片发生组合所形成的组合分子片的自旋多重度被预先内置到存储器中；

若满足，则从所述存储器中获取所述组合分子片的自旋多重度；

若不满足，则获取所述组合分子片的类型，根据所述组合分子片的类型为所述组合分子片指定自旋多重度。

6.根据权利要求5所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述获取所述组合分子片的类型，根据所述组合分子片的类型为所述组合分子片指定自旋多重度，包括：

判断所述组合分子片是否为特殊分子片，所述特殊分子片的自旋多重度被预先内置到存储器中；

若是，则从所述存储器中获取所述组合分子片的自旋多重度；

若否，则根据所述组合分子片的电荷数和核电荷数为所述组合分子片指定自旋多重度。

7.根据权利要求6所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述判断所述组合分子片是否为特殊分子片，包括：

获取所述组合分子片所包括的原子类型和原子坐标；

根据所述相邻两个所述分子片的电荷数确定所述组合分子片的电荷数；

根据所述组合分子片所包括的原子类型和原子坐标和所述组合分子片的电荷数判断所述组合分子片是否为所述特殊分子片。

8.根据权利要求1所述的自旋多重度指定方法，其特征在于，所述判断所述分子片是否发生裂分形成至少两个子分子片包括：

获取所述分子片中相邻两个原子之间的距离；

若所述距离大于或等于第二预设阈值，则所述分子片发生裂分形成至少两个子分子片。