[发明专利]基于控制点的两维样板线段偏移方法

说明书

本发明公开了基于控制点的两维样板线段偏移方法，包括控制点偏移和线段偏移两个步骤，控制点偏移包括以下步骤，S1、设定待偏移的若干控制点，S2、获取相邻控制点形成的线段，用位移函数SHV(P)计算偏移值，线段偏移包括，Y1、计算每个控制点所在角平分线上偏移量，Y2、根据偏移量朝向确定每个控制点的偏移方向，Y3、对每个关键点进行修正处理，取关键点左右相邻点作交线点以修正关键点，得到关键点的数据后通过位移函数SHV(P)计算所有线段之间的偏移值，Y4、检查关键点所形成的线段是否相交；将偏移值和线段偏移值进行对比，直到所有得到所有不相交的偏移值。通过控制点和偏移线段的计算和相交对比，有效控制轮廓线或内部线偏移，使模型效果更逼真。

技术领域

本发明涉及服装设计领域，具体涉及一种基于控制点的两维样板线段偏移方法。

背景技术

在服装设计中，两维样版编辑提供了相关软件在样片制作过程中的对衣片大小，尺寸修改最直接方式。而两维样版与三维样版展示不同的是，在处理两维样版时，具有更多的结构信息依附在每个样片之中。在表示样板轮廓线(或内部图形线)时，需要有一种特殊的线段结构表示，它包含了线段上的基本点信息以及关键控制点信息，关键点(或称为控制点)“勾画”了一块样片的骨架，或一条内部图形线的关键形态，而其余点信息描述了每两个关键控制点之间的形态以连接这些关键点，这些关键点可以用以直线连接也可以用曲线连接。而当需要对样版进行局部修改时，需要对样版的轮廓线或内部线进行修改才能达到目的，而在修改这些轮廓线或内部线时往往需要保留关键控制点同时“保持”这些线段连接的基本形态。

而在文献“二维控制场中控制点像点坐标亚像素定位的问题研究，作者：王成亮，邹峥嵘，李建文，闾海庆”，主要是知道理想的边缘是直线垂直方向上灰度有阶越状变化的位置,这些点才是组成理想边缘的直线元素。在前述操作中得到的直线仅仅是整像素的边缘直线,要想得到亚像素的标志中心坐标,可以通过精确计算Hough变换后的两条直线方程,解算交点获得标志中心的亚像素坐标。其最主要的是实现用已测的物方坐标计算每个控制点粗略的像坐标,实现标志点的自动分割和粗定位,然后根据实际摄影比例尺对每个标志开小窗口进行上述的每一步处理,从而实现所有标志的自动识别和提取。其原理和模型并无法解决服装设计领域中所遇到的控制轮廓线或内部线偏移的问题。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种基于控制点的两维样板线段偏移方法。

根据本申请实施例提供的技术方案，基于控制点的两维样板线段偏移方法，包括控制点偏移和线段偏移两个步骤，

所述控制点偏移包括以下步骤，

S1、设定待偏移的若干控制点，选择所述控制点时采用等距选择并在控制点的周围选取偏移参考点。

S2、获取相邻所述控制点之间形成的所有线段，所述线段的平行方向上有若干参照线段，并用位移函数SHV(P)计算所有所述线段之间的偏移值，以及平行线的偏移值，备用。

所述线段偏移包括以下步骤，

Y1、计算每个所述控制点所在角平分线上偏移量，

Y2、根据步骤Y1所得的偏移量朝向确定每个所述控制点的偏移方向，

Y3、对每个所述关键点进行修正处理，取所述关键点左右相邻点作交线点以修正关键点，得到关键点的数据后通过位移函数SHV(P)计算所有所述线段之间的偏移值，选取左右相邻点时，选取4-6个，再通过位移函数SHV(P)计算并逐步递减相邻点直到剩下一个相邻点。被递减的相邻点作为备用点进行存储，当进行偏移计算失败后可选用备用点进行替换计算。

Y4、检查步骤Y3中的所述关键点所形成的线段是否相交；