[发明专利]晶振片超声波脱膜方法

说明书

本公开提供了一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。通过本公开的方法，脱膜后的晶振片可重复使用，大大的节约了成本。

技术领域

本发明涉及光学镀膜领域，具体涉及一种晶振片超声波脱膜方法。

背景技术

晶振来源于多面体石英棒，先被切成六面体棒，再经过反复切割和研磨后被做成厚0.23mm，直径13.98mm的圆片，最后经切边、抛光、清洗，镀上金属电极。

利用晶振片监控膜厚，主要是利用了石英晶体的压电效应和质量负荷效应。晶振片压电效应的固有频率取决于其几何尺寸、AT切割和厚度，当晶振片表面镀上某种膜层，则其厚度增大，固有频率将将相应衰减，此效应就是质量负荷效应。晶振片膜厚监控仪就是通过固有频率或与固有频率相关的参量的变化进行监控膜层的厚度。

选择固有频率为5-10MHz，在沉积过程中，基频下降太多，振荡器不能稳定工作，产生跳频现象，如果此时继续沉积膜层，就会出现停振，为了保证振荡稳定和高的灵敏度，晶振上膜层镀到一定厚度以后，就需要更换新的晶振片。

现有处理更换后的旧的晶振片的方式是直接报废处理，严重浪费材料，浪费成本，污染环境。

发明内容

鉴于背景技术中存在的问题，本公开的目的在于提供一种晶振片超声波脱膜方法。

为了实现上述目的，本公开提供了一种晶振片超声波脱膜方法，包括以下步骤：步骤一，将晶振片固定于超声晶体篮中；步骤二，将装有晶振片的清洗篮浸没于超声波清洗机的强碱原液清洗槽中，在加热强碱中浸泡；步骤三，将超声装有晶振片的清洗篮置于超声波清洗机的纯水喷淋槽中冲洗；步骤四，将装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中，加热清洗；步骤五，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗；步骤六，将装有晶振片的清洗篮置于甩干机中进行甩干，晶振脱膜过程结束。

在一些实施例中，在步骤二中强碱原液选自WIN-18清洗剂和AK181清洗剂中的一种。

在一些实施例中，在步骤一中，所述强碱原液加热温度为65℃-75℃；

在一些实施例中，在步骤一中，所述超声波清洗时间为40min-60min。

在一些实施例中，在步骤三中，纯水的温度为30℃-45℃；

在一些实施例中，在步骤三中，纯水冲洗5min-10min。

在一些实施例中，在步骤四中，1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中的弱碱浓度均为5％-8％。

在一些实施例中，在步骤四中，装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号弱碱清洗剂槽中加热温度均为35℃-50℃。

在一些实施例中，在步骤五中，将弱碱清洗后的装有晶振片的清洗篮依次置于超声波清洗机的1号、2号、3号纯水清洗槽中清洗时间均为2min-3min。

本公开的有益效果如下：

本申请公开的晶振片超声波脱膜方法，通过对镀膜后的晶振片进行处理，将镀在晶振片上的膜层进行脱膜，脱膜后的晶振片可重复使用，大大的节约了成本。

具体实施方式

下面详细说明根据本公开的晶振片超声波脱膜方法。