[发明专利]基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器及其测试夹具在审

专利信息
申请号: 202111520103.7 申请日: 2021-12-13
公开(公告)号: CN114189213A 公开(公告)日: 2022-03-15
发明(设计)人: 郭诚;温潇竹;吴文萱;杨皓东;孙婷婷;张永超;梁瑞华;史光华;毋自贤;张安学 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: H03B19/00 分类号: H03B19/00;G01R1/04
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 安彦彦
地址: 710049 *** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 三维 金属 加工 宽带 表贴式 倍频器 及其 测试 夹具
【权利要求书】:

1.一种基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,包括从输入到输出端依次连接的波导探针过渡结构(1)、低通滤波器(2)、二极管芯片(3)、阻抗匹配网络(4)和探针波导过渡结构(5),波导探针过渡结构(1)和探针波导过渡结构(5)提供倍频器与测试夹具相连的波导接口;低通滤波(2)器用于限制倍频信号的流向,抑制倍频信号流向输入端,使其只能从输出端流出,低通滤波器采用加载T形SIR枝节的结构;二极管芯片(3)用于实现信号的倍频,设置二极管芯片(3)处的同轴线内导体向上延伸出两个台面,二极管芯片以倒扣的方式贴装到所述台面上,二极管芯片的形状为“工”字形和“十”字形,二极管芯片与外导体连接;阻抗匹配网络(4)用于实现前面电路与输出端口之间的阻抗匹配。

2.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,波导探针过渡结构(1)和探针波导过渡结构(5)的一侧是阻抗为50Ω的同轴线,另一侧为标准的波导;波导探针过渡结构(1)和探针波导过渡结构(5)均为过渡结构,过渡结构包括一块背腔和一块伸出的矩形探针,背腔为波导结构提供短路面,矩形探针用于实现波导和同轴线之间的阻抗匹配和模式匹配,同轴线中的电磁能量传输模式为TEM模式,波导中为TE10模式。

3.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,低通滤波器(2)共有五阶,第一阶谐振器、第三阶和第五阶谐振器均为高阻抗传输线形式,第二阶谐振器和第四阶谐振器为加载枝节的形式,相当于低阻抗传输线,能产生三个带外抑制零点,分别在110、170和340GHz附近,其中在100-200GHz频带内的两个零点用于提高阻带抑制性能。

4.根据权利要求3所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,低通滤波器(2)的总长度为W7=1900μm,低通滤波器(2)两端内导体的宽度为L9=178μm和L10=150μm,第二阶谐振器枝节内导体的宽度为L11=50μm,第四阶谐振器的枝节内导体的宽度为L12=300μm,第二阶谐振器枝节内导体的长度为W16=685μm,第四阶谐振器的枝节内导体的长度为W17+W18,W17=265μm,W18=290μm。

5.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,二极管芯片(3)设置四对反向并联的二极管对实现平衡结构。

6.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,阻抗匹配网络(4)采用在二极管芯片(3)与探针波导过渡结构(5)之间串联低阻抗线的形式实现,低阻抗线等效为电容;低阻抗线具体尺寸为:低阻抗线的总长度为W26=339μm,低阻抗线的宽度为L13=300μm。

7.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,介质支撑条间隔布置,相邻两个介质支撑条的间距为700μm,厚度为H2=20μm,总长度为L4+2×L5,L4=440μm,L5=30μm,两端的宽度为W1=150μm,中间的宽度为W2=100μm。

8.根据权利要求1所述的基于三维金属微加工的超宽带表贴式倍频器,其特征在于,外导体上开设有释放孔(6),所述释放孔(6)用于辅助洗胶,释放孔(6)的长度、宽度和高度分别为L8=250μm,W10=200μm,H3=200μm。

9.权利要求1-8中任一项所述超宽带表贴式倍频器的测试夹具,其特征在于,包括背腔片(101)、波导连接片(103)和法兰(104),背腔片(101)用于提供倍频器(102)输入输出过渡部分所需的背腔结构,背腔片(101)上设置有输入背腔(101a)和输出背腔(101b),波导连接片(103)连接倍频器(102)和法兰(104),法兰(104)整体为长方体形,垂直于自身连接面剖分为四块,其剖分面位于中面位置,平行于倍频器长度方向的距离可调。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安交通大学,未经西安交通大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111520103.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top