[发明专利]一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备

说明书

本发明提供了一种胶嘴座承载装置，包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置，使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流，对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。本发明还提供了一种涂胶显影设备。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备。

背景技术

涂胶显影机是半导体生产过程中不可或缺的设备之一，涂胶显影机主要包括涂胶单元、显影单元和热盘等。其中，涂胶单元负责在晶片表面均匀地涂覆光刻胶层，对光刻胶的吐出量有着很高的要求。胶嘴座承载装置及胶嘴座作为光刻胶的直接接触者，对光刻胶的吐出量有着直接影响。在胶嘴处于光刻工艺的等待阶段时，胶嘴放置在承载装置中，而光刻胶的溶剂因为具有挥发性，易使喷嘴处出现结块堵塞，造成吐出量的变化。

现有技术是依赖化学品的挥发保湿胶嘴，其防止光刻胶结块的效果不佳。另一现有技术是将直接浸泡在保湿液中实现保湿，胶嘴内的光刻胶不可避免地被稀释一部分，从而对涂覆性能产生影响。

因此，有必要开发一种新型胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，以避免现有技术存在的上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备，能够避免光刻胶在喷嘴处的结块造成光刻胶吐出量不稳定的情况，以提高工艺的稳定性。

为实现上述目的，本发明提供的胶嘴座承载装置包括：承载体，胶嘴座设置于所述承载体上；所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔，所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通；冲洗管道，所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔，以提供冲洗液；所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径，并与所述喷嘴放置孔相切设置，使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流，以清洗所述喷嘴。

本发明提供的胶嘴座承载装置的有益效果在于：通过喷嘴放置孔与喷嘴冲洗孔两者以相切的方式设置，使冲洗液从喷嘴冲洗孔进入喷嘴放置孔后形成涡流，对喷嘴放置孔内的喷嘴进行冲洗，进而去除喷嘴处的结块，改善光刻胶吐出量的稳定性，提高工艺的稳定性。

可选的，所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。其有益效果在于：有利于形成涡流，提升冲洗效果。

可选的，所述喷嘴放置孔为阶梯孔，其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。其有益效果在于：有利于减小喷嘴放置孔内壁与喷嘴之间的间隙，提升冲洗效果。

可选的，所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔，所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游，以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液，所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部，其直径小于所述排废圆形槽的半径，并与所述排废圆形槽相切设置，使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流，冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出。其有益效果在于：通过排废冲洗孔对排废圆形槽注入冲洗液，防止喷嘴处的冲洗下来的光刻胶在排废圆形槽内重新结块，且排废圆形槽内积聚的冲洗液挥发至喷嘴位置，有利于对喷嘴进行保湿，防止光刻胶结块。

可选的，所述排废圆形槽与所述排废冲洗孔相互垂直。其有益效果在于：有利于形成涡流，提升冲洗效果。

可选的，所述承载体还包括排废槽和与排废槽连通的排废管道，所述排废槽设置于所述排废圆形槽内液体盛满后溢出的下游位置，所述排废槽的底面靠近排废管道处的高度低于所述底面的其他位置。其有益效果在于：通过排废槽底面的高度差有利于将废液从排废管道排出。