[发明专利]一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备在审

专利信息
申请号: 202111508500.2 申请日: 2021-12-10
公开(公告)号: CN114114858A 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 张龙彪;吴海洋;栾忠平;柴大利 申请(专利权)人: 沈阳芯源微电子设备股份有限公司
主分类号: G03F7/30 分类号: G03F7/30;B05C5/02;B05B15/555
代理公司: 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 代理人: 黄海霞
地址: 110168 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 胶嘴座 承载 装置 涂胶 显影 设备
【权利要求书】:

1.一种胶嘴座承载装置,其特征在于,包括:

承载体,胶嘴座设置于所述承载体上;

所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔,所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通;

冲洗管道,所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔,以提供冲洗液;

所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径,并与所述喷嘴放置孔相切设置,使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流,以清洗所述喷嘴。

2.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。

3.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述喷嘴放置孔为阶梯孔,其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。

4.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔,所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游,以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液,所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部,其直径小于所述排废圆形槽的半径,并与所述排废圆形槽相切设置,使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流,冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出。

5.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述排废圆形槽与所述排废冲洗孔相互垂直。

6.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体还包括排废槽和与排废槽连通的排废管道,所述排废槽设置于所述排废圆形槽内液体盛满后溢出的下游位置,所述排废槽的底面靠近排废管道处的高度低于所述底面的其他位置。

7.根据权利要求6所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述排废圆形槽的开口为斜口,所述斜口的低处朝向所述排废槽。

8.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,还包括夹紧组件,所述夹紧组件设置于所述承载体表面,以夹紧所述胶嘴座。

9.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体包括相互连接的承载体上部件和承载体下部件,所述承载体上部件与所述承载体下部件之间设置有密封圈。

10.一种涂胶显影设备,其特征在于,具有权利要求1至9中任一项所述的胶嘴座承载装置。

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