[发明专利]一种胶嘴座承载装置和涂胶显影设备在审
申请号: | 202111508500.2 | 申请日: | 2021-12-10 |
公开(公告)号: | CN114114858A | 公开(公告)日: | 2022-03-01 |
发明(设计)人: | 张龙彪;吴海洋;栾忠平;柴大利 | 申请(专利权)人: | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/30 | 分类号: | G03F7/30;B05C5/02;B05B15/555 |
代理公司: | 上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286 | 代理人: | 黄海霞 |
地址: | 110168 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 胶嘴座 承载 装置 涂胶 显影 设备 | ||
1.一种胶嘴座承载装置,其特征在于,包括:
承载体,胶嘴座设置于所述承载体上;
所述承载体包括喷嘴放置孔和喷嘴冲洗孔,所述胶嘴座的喷嘴置于所述喷嘴放置孔内部,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔在所述喷嘴所在位置处相通;
冲洗管道,所述冲洗管道连通所述喷嘴冲洗孔,以提供冲洗液;
所述喷嘴冲洗孔直径小于所述喷嘴放置孔的半径,并与所述喷嘴放置孔相切设置,使冲洗液在所述喷嘴放置孔中形成涡流,以清洗所述喷嘴。
2.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述喷嘴放置孔与所述喷嘴冲洗孔相互垂直。
3.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述喷嘴放置孔为阶梯孔,其孔段直径随喷嘴直径减小而减小。
4.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体还包括排废圆形槽和排废冲洗孔,所述排废圆形槽设置于所述喷嘴放置孔的液流下游,以接收所述喷嘴放置孔内流出的废液,所述排废冲洗孔连通于所述排废圆形槽的底部,其直径小于所述排废圆形槽的半径,并与所述排废圆形槽相切设置,使冲洗液在所述排废圆形槽中形成涡流,冲洗所述排废圆形槽后从所述排废圆形槽中溢出。
5.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述排废圆形槽与所述排废冲洗孔相互垂直。
6.根据权利要求4所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体还包括排废槽和与排废槽连通的排废管道,所述排废槽设置于所述排废圆形槽内液体盛满后溢出的下游位置,所述排废槽的底面靠近排废管道处的高度低于所述底面的其他位置。
7.根据权利要求6所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述排废圆形槽的开口为斜口,所述斜口的低处朝向所述排废槽。
8.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,还包括夹紧组件,所述夹紧组件设置于所述承载体表面,以夹紧所述胶嘴座。
9.根据权利要求1所述的胶嘴座承载装置,其特征在于,所述承载体包括相互连接的承载体上部件和承载体下部件,所述承载体上部件与所述承载体下部件之间设置有密封圈。
10.一种涂胶显影设备,其特征在于,具有权利要求1至9中任一项所述的胶嘴座承载装置。
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