[发明专利]磁化旋转元件、磁阻效应元件、磁存储器和自旋轨道转矩配线的制造方法在审
| 申请号: | 202111499478.X | 申请日: | 2021-12-09 |
| 公开(公告)号: | CN114628575A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 佐佐木智生;盐川阳平;石谷优刚;滨中幸祐;小村英嗣 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
| 主分类号: | H01L43/06 | 分类号: | H01L43/06;H01L43/08;H01L43/10;H01L43/14;H01L27/22 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁化 旋转 元件 磁阻 效应 磁存储器 自旋 轨道 转矩 制造 方法 | ||
1.一种磁化旋转元件,其特征在于,包括:
自旋轨道转矩配线;和
层叠于所述自旋轨道转矩配线的第1铁磁性层,
所述自旋轨道转矩配线包括多个配线层,
在与所述自旋轨道转矩配线的长度方向正交的截面中,各个配线层的截面积与电阻率之积,越是接近所述第1铁磁性层的所述配线层越大。
2.如权利要求1所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述多个配线层中的最靠近所述第1铁磁性层的第1配线层,包含烧绿石结构的化合物。
3.如权利要求2所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述化合物为氧化物。
4.如权利要求3所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述氧化物以化学计量组成由R2Ir2O7的组成式表示,
所述组成式中的R为选自Pr、Nd、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy和Ho中的一种以上的元素。
5.如权利要求4所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述组成式中的R包含第1元素,
所述第1元素为Pr和Nd中的至少一者。
6.如权利要求5所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述组成式中的R包含第1元素和第2元素,
所述第1元素为Pr和Nd中的至少一者,
所述第2元素为选自Sm、Eu、Gd、Tb、Dy和Ho中的一种以上的元素。
7.如权利要求6所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述第2元素的组成比小于所述第1元素的组成比。
8.如权利要求3~7中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述氧化物氧缺失。
9.如权利要求1~8中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述自旋轨道转矩配线的电阻率为1mΩ·cm以上。
10.如权利要求1~9中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述自旋轨道转矩配线的电阻率为10mΩ·cm以下。
11.如权利要求1~10中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述多个配线层中的任一个包含原子序数比钇大的重金属。
12.如权利要求1~11中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述多个配线层中的任一个包含选自Ag、Au、Mg、V、Pd、Cu、Si和Al中的一种以上的元素。
13.如权利要求1~12中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述多个配线层中的任一个包含氮化物。
14.如权利要求1~13中任一项所述的磁化旋转元件,其特征在于:
在所述自旋轨道转矩配线的与所述第1铁磁性层相反的一侧还具有间隔层,
所述间隔层包含选自Cr、Ti、Ta、Ni、Ru、W中的任一种以上的元素。
15.如权利要求14所述的磁化旋转元件,其特征在于:
所述间隔层的膜厚为3nm以下。
16.一种磁阻效应元件,其特征在于,包括:
权利要求1~15中任一项所述的磁化旋转元件;
非磁性层,其与所述磁化旋转元件的所述第1铁磁性层相接;和
第2铁磁性层,其与所述第1铁磁性层一起将所述非磁性层夹在中间。
17.一种磁存储器,其特征在于:
包括多个权利要求16所述的磁阻效应元件。
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