[发明专利]一种用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜，其特征在于，硒化锌基片表面依次包括第一硫化锌层、硒化锌层、第二硫化锌层、氟化镱层和第三硫化锌层，其中所述第一硫化锌层厚度为5-15nm，所述硒化锌层厚度为150-600nm，所述第二硫化锌层厚度为5-15nm，所述氟化镱层厚度为500-1600nm，所述第三硫化锌层厚度为10-20nm。

2.一种权利要求1所述的用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在经过预处理的基片表面依次镀制第一硫化锌层、硒化锌层、第二硫化锌层、氟化镱层和第三硫化锌层，即得用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，

第一硫化锌层由电子束蒸发或钼舟蒸发镀制，并采用离子束辅助技术，其厚度为5-15nm；

硒化锌层由电子束蒸发或钼舟蒸发镀制，并采用离子束辅助技术，其厚度为150-600nm；

第二硫化锌层由电子束蒸发或钼舟蒸发镀制，并采用离子束辅助技术，其厚度为5-15nm；

氟化镱层由电子束蒸发或钼舟蒸发镀制，其厚度为500-1600nm；

第三硫化锌层由电子束蒸发或钼舟蒸发镀制，并采用离子束辅助技术，其厚度为10-20nm。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，

镀制第一硫化锌层时，离子辅助参数为：阳极电压为140～160V，阳极电流为3.5～4.5A，中和电流为17.5～18.5A，氩气流量为9～10SCCM；

镀制硒化锌层时，离子辅助参数为：阳极电压为100～110V，阳极电流为2.5～3.5A，中和电流为16.5～17.5A，氩气流量为8～9SCCM；

镀制第二硫化锌层时，离子辅助参数为：阳极电压为90～100V，阳极电流为2.0～3.0A，中和电流为16.0～17.0A，氩气流量为9～10SCCM；

镀制第三硫化锌层时，离子辅助参数为：阳极电压为90～100V，阳极电流为2.0～3.0A，中和电流为16.0～17.0A，氩气流量为9～10SCCM。

5.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述预处理工艺为：将基片首先进行清洁，然后真空状态下加热烘烤，最后在氩气气氛下开启离子源对基片待镀膜表面进行中性粒子束处理。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，

清洁工艺为：首先对基片待镀膜表面采用0.25μm氧化铝抛光液处理2～5分钟，然后采用脱脂棉球蘸取体积比为1：1的酒精及乙醚混合液擦拭，最后用哈气法检查基片待镀膜表面无污染物；

真空状态下加热烘烤工艺为：将基片待镀膜表面朝下置于真空室中并保持抽真空状态，然后将基片加热至190～210℃，并保持1～4小时；

中性粒子束处理工艺为：烘烤时间结束后，对离子源充入纯度不低于99.99％的氩气，并开启离子源对基片待镀膜表面进行中性粒子束处理，其中离子源参数为阳极电压为140～180V，阳极电流为3.5～5.5A，中和电流为16.5～19.5A，氩气流量为8～13SCCM，处理时间为5～20分钟。

7.一种权利要求1所述的用于硒化锌基片的高附着力高表面质量的增透膜在硒化锌透镜或棱镜中的应用。

8.根据权利要求7所述的应用，其特征在于，所述应用为将所述增透膜镀制在硒化锌透镜或棱镜的单面或是双面。