[发明专利]图像处理方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种图像处理方法，其特征在于，包括：

获取待处理图像的初始纹理坐标；

确定所述初始纹理坐标在各个时刻的目标偏移量；

根据所述初始纹理坐标和各个时刻的目标偏移量，确定各个时刻的目标纹理坐标；

根据各个时刻的目标纹理坐标，生成各个时刻的目标扭曲图像；

根据各个时刻的目标扭曲图像，生成目标动态扭曲图像。

2.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述初始纹理坐标包括第一方向初始纹理坐标和第二方向初始纹理坐标，所述第一方向初始纹理坐标所在的第一方向和所述第二方向初始纹理坐标所在的第二方向垂直；其中，所述确定所述初始纹理坐标在各个时刻的目标偏移量的步骤包括：

获取波动速度和像素扭曲周期，其中所述波动速度是用于控制所述待处理图像运动程度的参数，所述像素扭曲周期是用于控制根据所述待处理图像生成的所述目标动态扭曲图像中的弦波的数量的参数；

使用余弦函数处理所述波动速度、所述像素扭曲周期和目标方向初始纹理坐标，确定各个时刻的目标偏移量；

其中，所述目标方向初始纹理坐标为所述第一方向初始纹理坐标或所述第二方向初始纹理坐标。

3.根据权利要求2所述的图像处理方法，其特征在于，所述根据所述初始纹理坐标和各个时刻的目标偏移量，确定各个时刻的目标纹理坐标的步骤包括：

获取像素扭曲振幅、协同调节参数和目标方向向量，其中所述像素扭曲振幅是用于调控所述待处理图像的初始纹理坐标的偏移范围的参数，所述协同调节参数是用于调节所述像素扭曲振幅的粒度的参数，所述目标方向向量是用于调节所述第一方向初始纹理坐标和所述第二方向初始纹理坐标的向量；

根据各个时刻的目标偏移量、所述像素扭曲振幅、所述协同调节参数、所述目标方向向量以及所述初始纹理坐标，确定各个时刻的目标纹理坐标。

4.根据权利要求1所述的图像处理方法，其特征在于，所述确定所述初始纹理坐标在各个时刻的目标偏移量的步骤包括：

获取柏林噪声图像；

使用纹理采样函数处理所述柏林噪声图像和所述初始纹理坐标，确定所述初始纹理坐标在各个时刻的目标偏移量。

5.根据权利要求4所述的图像处理方法，其特征在于，所述使用纹理采样函数处理所述柏林噪声图像和所述初始纹理坐标，确定所述初始纹理坐标在各个时刻的目标偏移量的步骤包括：

获取第一层采样偏移和第二层采样偏移，以及所述第一层偏移量的第一权重，其中，所述第一层采样偏移是用于调控第一次采样所述柏林噪声图像时的位置偏移的参数，所述第二层采样偏移是用于调控第二次采样所述柏林噪声图像时的位置偏移的参数，所述第一层偏移量的第一权重是用于调控所述第一层偏移量的权重的参数；

使用所述纹理采样函数处理所述柏林噪声图像、所述初始纹理坐标、以及所述第一层采样偏移，获得各个时刻的第一层偏移量；

使用所述纹理采样函数处理所述柏林噪声图像、所述初始纹理坐标、所述第二层采样偏移、以及所述第一层偏移量及其第一权重，确定各个时刻的目标偏移量。

6.根据权利要求4所述的图像处理方法，其特征在于，所述根据所述初始纹理坐标和各个时刻的目标偏移量，确定各个时刻的目标纹理坐标的步骤包括：

获取像素扭曲振幅和协同调节参数，其中所述像素扭曲振幅是用于调控所述待处理图像的初始纹理坐标的偏移范围的参数，所述协同调节参数是用于调节所述像素扭曲振幅的粒度的参数；

根据各个时刻的目标偏移量、所述像素扭曲振幅、所述协同调节参数以及所述初始纹理坐标，确定各个时刻的目标纹理坐标。