[发明专利]一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统

权利要求书

1.一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，包括：光学隔震台、244氩离子倍频紫外激光器、准直扩束镜、反射镜、转接板、X轴平移电动位移台、Y轴电动升降位移台、平凸球面透镜、待刻写载氢光纤、六维调整架、相位掩膜版、三轴可调的手动位移台、光纤夹具、Hi1060转大模场光纤的模场适配器、大模场光纤转Hi1060模场的适配器、三端口光纤环形器、宽带光源和光谱分析仪；在所述光学隔震台上端面的前侧左端设置244氩离子倍频紫外激光器；在所述设置244氩离子倍频紫外激光器的右侧设置准直扩束镜；在所述准直扩束镜的右侧设置X轴平移电动位移台；在所述X轴平移电动位移台上设置转接板，且转接板与X轴平移电动位移台之间滑动连接；在所述转接板的前端设置反射镜，且反射镜呈45°角；在所述转接板的后端设置Y轴电动升降位移台，且Y轴电动升降位移台与转接板之间滑动连接；在所述Y轴电动升降位移台上设置平凸球面透镜，且平凸球面透镜的位置与反射镜的位置相对应；

在所述转接板后端的光学隔震台上设置六维调整架；在所述六维调整架上设置相位掩膜版，且相位掩膜版的位置与平凸球面透镜的位置相对应；在所述六维调整架的两侧分别设置有三轴可调手动位移台；在所述三轴可调手动位移台上设置光纤夹具；在左侧的所述三轴可调手动位移台的左端设置有Hi1060转大模场光纤的模场适配器；在所述Hi1060转大模场光纤的模场适配器的左侧设置三端口光纤环形器；在所述三端口光纤环形器的左侧分别设置有宽带光源和光谱分析仪；在右侧的所述三轴可调手动位移台的右侧设置有大模场光纤转Hi1060模场的适配器；所述待刻写载氢光纤通过光纤夹具固定在三轴可调手动位移台上，且左端延伸穿过Hi1060转大模场光纤的模场适配器和三端口光纤环形器，右端延伸穿过大模场光纤转Hi1060模场的适配器。

2.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，所述光学隔震台用于各个仪器设备的承载与固定。

3.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，设置在两套所述三轴可调手动位移台上的两套光纤夹具，保持同等高度、同一水平线。

4.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，所述宽带光源接三端口光纤环形器的端口一；所述待刻写载氢光纤的一端接Hi1060转大模场光纤的模场适配器的14/250端，三端口光纤环形器的端口二接Hi1060转大模场光纤的模场适配器器的Hi1060端；所述待刻写载氢光纤的另一端接大模场光纤转Hi1060的模场适器的14/250端，大模场光纤转Hi1060的模场适配器的Hi1060端暂时空放。

5.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，所述光谱分析仪接三端口光纤环形器的端口三，用来测试光纤光栅的反射谱；当需要测光纤光栅的透射谱，将三端口光纤环形器的端口三空放，将大模场光纤转Hi1060的模场适配的Hi1060端接光谱分析仪，即可测试光纤光栅的透射谱。

6.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，所述平凸球面镜平面端接收45°反射镜的发射光束，调节所述平凸球面透镜，使得平面端垂直于紫外激光，凸面端发射压缩的点状激光，且点状激光经过所述相位掩膜版，调节相位掩膜版的六维调节架，使得相位掩膜版严格垂直于点状激光，并且点状激光经过所述相位掩膜版，产生干涉条纹。

7.根据权利要求1所述的一种用于刻写大模场啁啾光纤光栅的切趾刻写系统，其特征在于，夹持在所述光纤夹具中的待刻写载氢光纤平行于相位掩膜版。