[发明专利]一种用于工业摄影测量的超高精度合作目标的制作方法在审

专利信息
申请号: 202111478589.2 申请日: 2021-12-06
公开(公告)号: CN114953700A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 王伟峰;黄桂平;轩亚兵;朱恩利;张丹 申请(专利权)人: 黄河水利职业技术学院
主分类号: B32B37/12 分类号: B32B37/12;B32B38/00
代理公司: 郑州明华专利代理事务所(普通合伙) 41162 代理人: 王明朗
地址: 475000*** 国省代码: 河南;41
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 工业 摄影 测量 超高 精度 合作 目标 制作方法
【权利要求书】:

1.一种用于工业摄影测量的超高精度合作目标制作方法,其特征在于:包括以下步骤:

S1、根据工业测量需求设定合作目标需要的内圆直径d,然后根据内圆直径计算出外圆的直径D,

若d≤3mm,D=6mm;若d>3mm,

S2、采用机床雕刻工艺在铟钢上雕刻出含有内圆和外圆的环形模切刀版;

S3、采用模切工艺,使用环形刀版对黑色哑光面材进行模切得到黑色环形覆盖膜;

S4、将黑色环形覆盖膜规整的覆盖到反光布上;

S5、沿着覆盖膜外圆的边缘对覆有覆盖膜的反光布进行裁切,形成外环为黑色、内圆为反光布原始表面的工业摄影测量系统合作目标。

2.根据权利要求1所述的用于工业摄影测量的超高精度合作目标制作方法,其特征在于:所述刀版的内圆圆度优于0.01mm。

3.根据权利要求1所述的用于工业摄影测量的超高精度合作目标制作方法,其特征在于:所述黑色哑光面材的背部带胶,其厚度不大于0.025mm。

4.根据权利要求1所述的用于工业摄影测量的超高精度合作目标制作方法,其特征在于:所述覆盖膜内圆圆度优于0.030mm。

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