[发明专利]一种半透明钙钛矿层、半透明钙钛矿光伏组件及制备方法在审
申请号: | 202111464260.0 | 申请日: | 2021-12-03 |
公开(公告)号: | CN114188483A | 公开(公告)日: | 2022-03-15 |
发明(设计)人: | 邵君;王雪戈;郑策;于振瑞 | 申请(专利权)人: | 无锡极电光能科技有限公司 |
主分类号: | H01L51/42 | 分类号: | H01L51/42;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人: | 牛海燕 |
地址: | 214101 江苏省无锡市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 半透明 矿层 钙钛矿光伏 组件 制备 方法 | ||
1.一种半透明钙钛矿层的制备方法,其特征在于,所述的制备方法包括:
加工具有图案结构的第一钙钛矿前驱体层,覆盖制备第二钙钛矿前驱体层,退火后,具有第一钙钛矿前驱体层的区域转换为钙钛矿层,无第一钙钛矿前驱体层的区域为透明层,制备得到半透明钙钛矿层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述图案的加工方式包括掩膜;
优选地,所述第一钙钛矿前驱体层的制备方式包括沉积;
优选地,所述沉积的方式包括热蒸发、近空间升华或气相输运中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一钙钛矿前驱体层的厚度为50~300nm。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一钙钛矿前驱体层中Cs元素与Pb元素的摩尔比为(0~0.2):1;
优选地,所述第一钙钛矿前驱体层的组成包括PbX2和CsX,X为I、Br或Cl中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一钙钛矿前驱体层中Cl元素与I元素的摩尔比为(0~0.3):1。
4.根据权利要求1-3任一项所述的制备方法,其特征在于,所述第二钙钛矿前驱体层由有机浆料涂覆得到,所述有机浆料包括有机阳离子卤化物和溶剂;
优选地,所述有机阳离子卤化物包括甲胺类卤化物和/或甲脒类卤化物;
优选地,所述甲胺类卤化物包括碘甲胺、溴甲胺或氯甲胺中的一种或至少两种的组合;
优选地,甲脒类卤化物包括碘甲脒、溴甲脒或氯甲脒中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第二钙钛矿前驱体层中Cl元素与I元素的摩尔比为(0~0.3):1。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述溶剂包括异丙醇;
优选地,所述溶剂还包括辅助溶剂;
优选地,所述溶剂与辅助溶剂的体积比为1:(0~0.2);
优选地,所述辅助溶剂包括正丁醇、叔丁醇、正戊醇、DMF或DMSO中的一种或至少两种的组合。
6.根据权利要求1-5任一项所述的制备方法,其特征在于,所述退火的温度为80~200℃;
优选地,所述退火的时间为5~60min;
优选地,所述钙钛矿层的厚度为100~600nm。
7.一种半透明钙钛矿层,其特征在于,所述半透明钙钛矿层包括按图案排布的钙钛矿层,所述钙钛矿层的间隔空白设置透明层,所述钙钛矿层和有透明层一体形成所述半透明钙钛矿层,所述半透明钙钛矿层由权利要求1-6任一项所述的半透明钙钛矿层的制备方法制备得到。
8.一种半透明钙钛矿光伏组件,其特征在于,所述半透明钙钛矿光伏组件包括依次层叠设置的衬底、第一电荷传输层、半透明钙钛矿层、第二电荷传输层和背电极,所述半透明钙钛矿层为权利要求7所述的半透明钙钛矿层。
9.一种权利要求8所述的半透明钙钛矿光伏组件的制备方法,其特征在于,所述半透明钙钛矿光伏组件的制备方法包括:
(Ⅰ)在衬底上制备第一电荷传输层,在第一电荷传输层上按照图案加工间隔设置的第一钙钛矿前驱体层;
(Ⅱ)在衬底具有钙钛矿前驱体层的一侧覆盖制备第二钙钛矿前驱体层,退火后,具有第一钙钛矿前驱体层的区域转换为钙钛矿层,无第一钙钛矿前驱体层的区域为透明层,制备得到半透明钙钛矿层;
(Ⅲ)在衬底具有钙钛矿层的一侧依次制备第二电荷传输层和背电极,制备得到所述的半透明钙钛矿光伏组件。
10.根据权利要求9所述的半透明钙钛矿制备方法,其特征在于,所述衬底的材质包括FTO和/或ITO;
优选地,所述第一电荷传输层为电子传输层,所述第二电荷传输层为空穴传输层,所述电子传输层的材质包括TiO2、SnO2或Nb2O5中的一种或至少两种的组合,所述空穴传输层的材质包括spiro-OMeTAD、PTAA、CuSCN、CuI或CuPc中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一电荷传输层为空穴传输层,所述第二电荷传输层为电子传输层,所述空穴传输层的材质包括NiOx、PTAA、PEDOT:PSS或poly-TPD中的一种或至少两种的组合,所述电子传输层的材质包括C60、BCP、PCBM、SnO2、Nb2O5、中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第一电荷传输层的制备方式包括磁控溅射、ALD、热蒸发、气相输运、近空间升华、狭缝涂布、刮涂、喷涂或喷墨打印中的一种或至少两种的组合;
优选地,所述第二电荷传输层的制备方式包括磁控溅射、ALD、热蒸发、气相输运、近空间升华、狭缝涂布、刮涂、喷涂或喷墨打印中的一种或至少两种的组合。
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