[发明专利]壳体加工方法、壳体及电子设备在审

专利信息
申请号: 202111459356.8 申请日: 2021-12-01
公开(公告)号: CN116200789A 公开(公告)日: 2023-06-02
发明(设计)人: 杨峥 申请(专利权)人: 北京小米移动软件有限公司
主分类号: C25D11/12 分类号: C25D11/12;H05K5/00;C25D7/00
代理公司: 北京名华博信知识产权代理有限公司 11453 代理人: 边明威
地址: 100085 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 壳体 加工 方法 电子设备
【权利要求书】:

1.一种壳体加工方法,其特征在于,所述加工方法包括:

提供初始壳体;

以第一预设电压对所述初始壳体进行第一阳极氧化处理,使所述初始壳体的第一区域形成第一阳极氧化膜层,所述第一阳极氧化膜层具有第一颜色;

对所述第一区域中的至少一个第一预设区域进行重复阳极氧化处理,所述重复氧化处理过程包括:

去除所述第一预设区域表面的第一阳极氧化膜层,形成第一待加工区域;

对所述第一待加工区域进行氧化处理,氧化处理过程中使用的加工电压不断升高,所述加工电压的起始电压低于所述第一预设电压;

其中,所述第一颜色和所述第一待加工区域的表面所形成的颜色均不同。

2.根据权利要求1所述的壳体加工方法,其特征在于,所述第一阳极氧化处理包括:

将所述初始壳体浸入至第一氧化液内并通电施加第一预设电压,持续第一预设时长,以形成所述第一阳极氧化膜层;

对所述第一阳极氧化膜层进行染色,使所述第一阳极氧化膜层具有第一颜色;

对具有所述第一颜色的第一阳极氧化膜层进行封孔。

3.根据权利要求1所述的壳体加工方法,其特征在于,所述对所述待加工区域进行氧化处理,氧化处理过程中使用的加工电压不断升高,包括:

对所述第一待加工区域进行第二阳极氧化处理,在进行所述第二阳极氧化处理过程中使用的加工电压按照第一升压规则不断升高,所述第一待加工区域形成第二阳极氧化膜层,所述第二阳极氧化膜层具有第二颜色;

对所述第一区域中的至少一个第二预设区域,进行重复阳极氧化处理,所述重复氧化处理过程包括:

去除所述第二预设区域表面的第一阳极氧化膜层,形成第二待加工区域,和/或,

所述第一待加工区域中的至少一个第三预设区域,进行重复阳极氧化处理,所述重复氧化处理过程包括:

去除所述第三预设区域表面的第二阳极氧化膜层,形成第二待加工区域;

对所述第二待加工区域进行氧化处理,氧化处理过程中使用的加工电压不断升高;

其中,所述第二待加工区域的表面所形成的颜色与所述第二颜色、所述第一颜色均不同。

4.根据权利要求3所述的壳体加工方法,其特征在于,所述对所述第一待加工区域进行第二阳极氧化处理包括:

在所述第一待加工区域形成第一导电位,通过所述第一导电位,对所述第一待加工区域进行第二阳极氧化处理。

5.根据权利要求4所述的壳体加工方法,其特征在于,所述在所述第一待加工区域形成第一导电位包括:

采用镭雕的方式在所述第一待加工区域形成第一导电位。

6.根据权利要求4所述的壳体加工方法,其特征在于,所述对所述第一待加工区域进行第二阳极氧化处理,包括:

将所述初始壳体浸入至第二氧化液内,在进行所述第二阳极氧化处理过程中使用的加工电压按照第一升压规则不断升高,持续第二预设时长,通过所述第一导电位,使所述第一待加工区域形成第二阳极氧化膜层;

对所述第二阳极氧化膜层进行染色,使所述第二阳极氧化膜层具有第二颜色;

对具有所述第二颜色的第二阳极氧化膜层进行封孔。

7.根据权利要求3所述的壳体加工方法,其特征在于,所述对所述第二待加工区域进行氧化处理,氧化处理过程中使用的加工电压不断升高,包括:

对所述第二待加工区域进行第三阳极氧化处理,在进行所述第三阳极氧化处理过程中使用的加工电压按照第二升压规则不断升高,所述第二待加工区域形成第三阳极氧化膜层,所述第三阳极氧化膜层具有第三颜色;

对具有第一阳极氧化膜层、第二阳极氧化膜层和第三阳极氧化膜层的所述初始壳体进行重复阳极氧化处理。

8.根据权利要求7所述的壳体加工方法,其特征在于,所述第二升压规则可以与所述第一升压规则不同。

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