[发明专利]OPC修正中通孔层断线热点评估方法在审
| 申请号： | 202111439153.2 | 申请日： | 2021-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN114114852A | 公开（公告）日： | 2022-03-01 |
| 发明（设计）人： | 葛同广;曾鼎程 | 申请（专利权）人： | 上海华力集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭立 |
| 地址： | 201315 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | opc 修正 中通孔层 断线 热点 评估 方法 | ||
1.一种OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
对通孔层图形进行分类，对不同类型的图形采用不同的预设规则来识别断线热点。
2.如权利要求1所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
把所述通孔层图形分为三个类型；
若所述通孔层图形的长宽比大于4，所述通孔层图形定义为第一类型图形；
若所述通孔层图形的长宽比小于2，所述通孔层图形定义为第二类型图形；
若所述通孔层图形的长宽比为2至4，所述通孔层图形定义为第三类型图形。
3.如权利要求2所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
对所述第一类型图形，采用第一预设规则来抓取断线热点；
对所述第二类型图形，采用第二预设规则来抓取断线热点；
对所述第三类型图形，采用第三预设规则来抓取断线热点。
4.如权利要求3所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
所述第一预设规则为抓取第一类型图形的最小值，根据所述最小值来识别断线热点。
5.如权利要求3所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
所述第二预设规则为抓取第二类型图形的最大值，根据所述最大值来识别断线热点。
6.如权利要求3所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
所述第三预设规则为截断第三类型图形的两端，抓取第三类型图形的中间段的最小值，根据所述最小值来识别断线热点。
7.如权利要求3所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
所述第二预设规则为分别抓取第二类图形在水平方向的第一最大值和垂直方向的第二最大值，根据所述第一最大值和/或所述第二最大值来识别断线热点。
8.如权利要求7所述的OPC修正中通孔层断线热点评估方法，其特征在于：
对所述第二类图形，根据水平方向的第一最大值和垂直方向的第二最大值分别对掩膜进行修正移动。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华力集成电路制造有限公司，未经上海华力集成电路制造有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202111439153.2/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
