[发明专利]抛物面天线的主反射面变形测量方法、补偿方法及系统在审
申请号: | 202111420550.5 | 申请日: | 2021-11-26 |
公开(公告)号: | CN113937507A | 公开(公告)日: | 2022-01-14 |
发明(设计)人: | 叶骞;王博阳;王锦清;刘庆会;沈志强 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海天文台 |
主分类号: | H01Q15/16 | 分类号: | H01Q15/16;H01Q19/19;G01B21/32 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 刘芳 |
地址: | 200030*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抛物面天线 反射 变形 测量方法 补偿 方法 系统 | ||
1.一种抛物面天线的主反射面变形测量方法,其特征在于,包括:
获取设定区域上辐射信号的强度测量值,所述设定区域为以抛物面天线主反射面的焦点为球心的下半球面,且所述设定区域位于抛物面天线馈源的下方;
根据计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y),其中,A0(x,y)为所述抛物面天线主反射面未变形时,在所述设定区域上辐射信号的强度分布,A(x,y)为在所述设定区域上辐射信号的强度测量值,R为所述半球面的半径,d(x,y)为在过所述半球面上点(x,y)的反射光路径上,所述半球面与抛物面天线主反射面表面之间的距离,F为主反射面焦距,x和y为所述半球面上点(x,y)投影在抛物面天线口径面的横纵坐标。
2.根据权利要求1所述的抛物面天线的主反射面变形测量方法,其特征在于,所述根据计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y),具体包括:
根据采用有限差分-高斯迭代法计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y)。
3.根据权利要求1所述的抛物面天线的主反射面变形测量方法,其特征在于,所述根据计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y),具体包括:
根据采用神经网络模型计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y)。
4.根据权利要求1所述的抛物面天线的主反射面变形测量方法,其特征在于,所述抛物面天线为格里高利式或卡塞格林式天线。
5.一种抛物面天线的主反射面变形补偿方法,其特征在于,包括:
采用权利要求1-4任一项所述的抛物面天线的主反射面变形测量方法确定抛物面天线主反射面的变形;
根据所述抛物面天线主反射面的变形,对所述抛物面天线主反射面的变形进行补偿。
6.一种抛物面天线的主反射面变形测量系统,其特征在于,包括:
强度测量值获取模块,用于获取设定区域上辐射信号的强度测量值,所述设定区域为以抛物面天线主反射面的焦点为球心的下半球面,且所述设定区域位于抛物面天线馈源的下方;
变形计算模块,用于根据计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y),其中,A0(x,y)为所述抛物面天线主反射面未变形时,在所述设定区域上辐射信号的强度分布,A(x,y)为在所述设定区域上辐射信号的强度测量值,R为所述半球面的半径,d(x,y)为在过所述半球面上点(x,y)的反射光路径上,所述半球面与抛物面天线主反射面表面之间的距离,F为主反射面焦距,x和y为所述半球面上点(x,y)投影在抛物面天线口径面的横纵坐标。
7.根据权利要求6所述的抛物面天线的主反射面变形测量系统,其特征在于,所述变形计算模块,具体包括:
变形计算单元,用于根据采用有限差分-高斯迭代法计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y)。
8.根据权利要求6所述的抛物面天线的主反射面变形测量系统,其特征在于,所述变形计算模块,具体包括:
变形计算单元,用于根据采用神经网络模型计算抛物面天线主反射面上的变形δ(x,y)。
9.根据权利要求6所述的抛物面天线的主反射面变形测量系统,其特征在于,所述抛物面天线为格里高利式或卡塞格林式天线。
10.一种抛物面天线的主反射面变形补偿系统,其特征在于,包括:变形补偿模块和权利要求6-9任一项所述的抛物面天线的主反射面变形测量系统,其中,所述变形补偿模块用于根据抛物面天线主反射面的变形,对所述抛物面天线主反射面的变形进行补偿。
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