[发明专利]一种电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法在审
| 申请号: | 202111316982.1 | 申请日: | 2021-11-09 |
| 公开(公告)号: | CN116109715A | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
| 发明(设计)人: | 刘杰;姚文泽;赵浩杰;徐宏成;刘薇;侯程阳 | 申请(专利权)人: | 湖南大学 |
| 主分类号: | G06T9/40 | 分类号: | G06T9/40;G03F7/20 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 410082 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电子束光刻 邻近 效应 矫正 版图 压缩 方法 | ||
本发明是一种电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法,电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法包括:S1归一化版图边界;S2判定每个四叉树网格区域的划分层级;S3版图图案边界对四叉树网格进行剪切;S4邻近效应矫正剂量映射入非均匀四叉树网格;S5将四叉树网格与曝光剂量存入文件。本发明采用了非均匀四叉树网格压缩方法,最大特点是在版图边缘部分网格划分相对密集,在版图的内部网格划分相对稀疏,这种压缩方法完全符合电子束邻近效应矫正的剂量特性,将电子束邻近效应矫正后的剂量映射至该网格,能够极大降低网格数量,从而提高曝光效率。
技术领域
本发明涉及一种电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法,该方法能够将邻近效应矫正后的版图进行网格压缩,在确保精度的前提下,极大降低网格数量,有效提高曝光效率。
背景技术
随着电子束光刻(Electron Beam Lithography,EBL)的最小尺寸达到亚10纳米级别,为了确保电子束曝光版图的高分辨率,电子束邻近效应矫正(Proximity EffectCorrection,PEC)后的网格将进一步缩小,增加了版图网格的存储数量,从而大大降低电子束光刻过程的计算效率。为了压缩版图的网格数量,必须采用非均匀网格的划分模式。目前,二维非均匀网格划分中普遍应用三角形网格、四边形网格等非矩形网格图形。而这种非矩形类的网格划分,在实际的电子束光刻过程中,与电子束光刻的水平、竖直扫描方式不完全兼容,当出现小锐角的网格时,容易出现像素失真,从而影响电子束光刻的分辨率。
因此,为了找到一种矩形非均匀网格的版图划分方法,本发明采用了非均匀四叉树网格压缩方法,该方法的最大特点是在版图边缘部分网格划分相对密集,在版图的内部网格划分相对稀疏,这种压缩方法完全符合电子束邻近效应矫正的剂量特性,即在版图边缘的剂量矫正相对明显,在版图中间区域的剂量矫正相对平缓。最终将电子束邻近效应矫正后的剂量映射至该网格,能够极大降低网格数量,从而提高曝光效率。
发明内容
本发明是一种电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法,目的是有效降低电子束邻近效应版图的网格数量,在确保精度的前提下,极大提高电子束光刻的曝光效率。
本发明的技术解决方案为:通过非均匀四叉树网格压缩电子束光刻临近下应矫正后的版图,发明步骤如下:
步骤S1,归一化版图边界;
读入电子束光刻的原始版图,确定曝光版图的最外层边界位置坐标,并在矩形边界的四边分别向外扩展一定距离D,扩展后的矩形网格确定四叉树网格的边界,然后将四叉树网格内的尺寸归一化,构成1.0×1.0浮点数四叉树网格边界,该网格定义为根网格,层级为0。
步骤S2,判定每个四叉树网格区域的划分层级;
确定四叉树网格的最大Lmax和最小Lmin的划分层级,进行非均匀四叉树网格划分。当光刻版图图案边界直线段(曲线段近似为多段直线段)与当前四叉树网格任意一条边存在相交或重叠关系时,直接进行当前网格的四叉树划分。
判定版图中的直线段与四叉树网格的边界线段相交,如图2(a)所示,线段AB、CD当满足式(1)时,即:
式中,×代表向量叉乘,且满足与不同时为0,与不同时为0。
判定版图中的直线段与四叉树网格的边界线段重叠,如图2(b)所示,即:将两个线段的四个端点按大小顺序排列,先比较横坐标,横坐标大的点更大,横坐标相同,纵坐标大的点更大,按照大小顺序得到线段AB、CD。当满足式(2)时,即:
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