[发明专利]一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架及其制备方法

权利要求书

1.一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架，其特征是：由多个纤维集落组成，且多个纤维集落中心处的平均厚度为30~65μm；在每个纤维集落中，以纤维集落的中心为圆心，纤维的长度方向是向四周呈放射状分布，且纤维的密度是沿所述放射状方向逐步降低；

所述多个纤维集落的分布方式为：以其中一个纤维集落为中心，其余纤维集落呈若干个环形阵列纤维集落组，每个环形阵列纤维集落组呈圆形分布，各个环形阵列纤维集落组构成的圆形呈同心圆排列，且该同心圆中位于最内圈的圆形的半径和相邻圆形之间的半径差相等；所述同心圆的圆心为所述中心；构成每个环形阵列纤维集落组的纤维集落数相等，且每个环形阵列纤维集落组上各个纤维集落沿圆周等角度分布；

连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的顶破强力为4~5N，是单梯度纳米纤维支架的2~4倍；连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的拉伸强力为0.8~1.5N，是单梯度纳米纤维支架的2~4倍。

2.根据权利要求1所述的连续阵列梯度纳米纤维仿生支架，其特征在于，所述多个纤维集落的分布方式中，所述半径差为3~20mm，所述构成每个环形阵列纤维集落组的纤维集落数为3~8个。

3.根据权利要求1所述的连续阵列梯度纳米纤维仿生支架，其特征在于，所述多个纤维集落的分布方式中，若干个环形阵列纤维集落组为1~3个环形阵列纤维集落组。

4.根据权利要求1所述的连续阵列梯度纳米纤维仿生支架，其特征在于，相邻环形阵列纤维集落组中各个纤维集落的分布角度相同，且相邻环形阵列纤维集落组中距离最近的纤维集落的中心与所述同心圆的圆心位于一条直线上。

5.制备如权利要求1~4中任一项所述的一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的方法，其特征是：先进行静电纺丝得到阵列状梯度纳米纤维膜，再进行灭菌和交联处理得到所述连续阵列梯度纳米纤维仿生支架；

所述静电纺丝采用接收装置包括一块印制电路板和一个环形电极；

印制电路板包括一绝缘基板、若干焊盘、两连接器、若干导线和若干针尖电极；

所述焊盘的分布方式为：将焊盘视为一个点，绝缘基板的正中心分布一个焊盘，其余焊盘构成若干个环形阵列焊盘组，每个环形阵列焊盘组呈圆形分布，各个环形阵列焊盘组构成的圆形呈同心圆排列；该同心圆的圆心为所述绝缘基板的正中心；构成每个环形阵列焊盘组的焊盘数相等，且每个环形阵列焊盘组上各个焊盘沿圆周等角度分布；环形电极的底部固定在绝缘基板上，且从环形电极的顶部视角看，所述环形电极的内壁构成的圆形与所述各个环形阵列焊盘组构成的圆形均为同心圆且位于最内圈的圆形的半径和相邻圆形之间的半径差相等；

针尖电极为导电材料制成的针状结构，且每个针尖电极的非针尖所在一端都独立地焊接到1个焊盘上，且与焊盘电连接；针尖电极的数量和连续阵列梯度纳米纤维仿生支架中纤维集落的数量相同；

连接器位于印制电路板的边缘处，且焊盘通过导线与连接器电连接，用于接地。

6.根据权利要求5所述的一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的方法，其特征在于，所述焊盘的分布方式中，相邻圆形之间的半径差为3~20mm；每个环形阵列焊盘组的焊盘数为3~8个。

7.根据权利要求5所述的一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的方法，其特征在于，所述焊盘的分布方式中，若干个环形阵列焊盘组的数量为1~3个。

8.根据权利要求5所述的一种连续阵列梯度纳米纤维仿生支架的方法，其特征在于，相邻环形阵列焊盘组中各个焊盘的分布角度相同，且相邻环形阵列焊盘组中距离最近的焊盘与所述同心圆的圆心位于一条直线上。